在生产过程中，制药企业会使用到一些溶点低、挥发性好的有机溶剂。此类溶剂很可能会随着生产过程挥发出来而导致VOCs污染，VOCs排放主要发生在投料、反应、溶剂回收、过滤、离心、烘干、出料等操作单元。各单元操作特征:①投料:小量敏感物料使用真空抽料，大量的敏感物料使用泵投料或泵输送至高位槽投料;②反应:反应釜的放空口经冷凝回收溶剂后排空;③溶剂回收:蒸馏釜的放空口经冷凝回收后排空，若使用减压蒸馏，则废气进入真空系统后外排，回收的溶剂暂存至接收罐;④过滤、离心:使用敞口式离心机或敞口式过滤器，采用密闭离心机、过滤器出料时敏感物料直接暴露空气中;⑤烘干:烘干废气进入缓冲罐后排放，出料时敏感物料直接暴露于空气中。

　　溶剂废气有数十种之多，如甲醇、二氯甲烷、溶剂油、甲苯、丙酮、乙醚、乙酸乙酯、四氢呋喃等,按类别划分有醇类、卤代烃类、苯类、醚类、酮类、脂类、有机胺类等,按水中溶解度可分为水溶性和非水溶性溶剂废气,水溶性的有醇类、有机胺类等,非水溶性的有卤代烃类、苯类等。

　　光催化氧化法:该法是通过光催化氧化反应净化消除挥发性有机气体。所谓光催化氧化反应，就是让太阳光或其他一定能量的光照射光敏半导体催化剂时，激发半导体的价带电子发生带间跃迁，即从价带跃迁到导带，从而产生光生电子(e-)和空穴(h+)。此时吸附在纳米颗粒表面的溶解氧俘获电子形成超氧负离子，而空穴将吸附在催化剂表面的氢氧根离子和水氧化成氢氧自由基。而超氧负离子和氢氧自由基具有很强的氧化性，能使有机污染物氧化至最终产物CO2和H2O。利用光催化氧化工艺处理废气是一种应用前景非常广阔的方法。但是目前大多数还在是运用于室内空气的净化，主要用于处理低浓度有机废气领域，有效运用于较高浓度有机废气处理的工业应用还很少，处理效率得不到保证。