| 性能与实用完美结合的光谱分析仪 |
| PDA-5500系列继承岛津光电发射光谱仪的精华，标准配备岛津独创的时间分解PDA(Pulse Distribution Analysis脉冲分布分析)测光法，可以同时快速、准确地分析金属的元素组成，是金属质量管理分析中应用广泛的分析仪器。可广泛应用于钢铁、铸造、有色、汽车、机械等众多行业，提高对冶炼工业和机械加工工业的工程管理分析、原材料验收及产品出厂鉴定分析等能力。 |
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| 高精度与稳定性相结合，有力地支持品质管理分析 < 标准配置岛津独创的PDA测光法(脉冲分布测光法) 过去测光法对放电所得的光电流进行一定时间的单纯积分，而PDA对每个放电脉冲所得的光电流进行积分，将每个积分值的含义进行解析，进行最佳处理，求得含量。 可控制放电脉冲的数据，除去异常放电脉冲时的测光值，提高精度。 结合内标监控法，可降低试样缺陷(裂纹、气孔)对分析值的影响，提高重现性。 < 根据分析范围、分析元素选择最佳放电条件 根据不同元素分别使用高能量放电、重现性良好的电火花放电和灵敏度良好的电弧火花放电等。组合使用，可设定最佳放电条件。 分别采用时间分解测光法实现高精度分析。也适用于0.01mm厚度的试样和小口径试样。 < 采用新型发光台，提高稳定性 采用水平式特殊合金材质激发台，大幅度提高高浓度元素(不锈钢、铝合金)的精度。另外，采用大型试样板便于操作的同时，也提高了耐用性。 < 配置高真空直联旋转真空泵，提高分析稳定性 为避免C、P、S、B等元素光谱线受到空气中氧的吸收影响，必须保持分光器内高真空。 岛津采用直联旋转抽真空的方式(PDA-5500III除外)，快速达到真空度的同时避免油蒸汽的污染，保证得到非常稳定的分析结果。 科学人性化的设计，易懂易用 < 中文化操作系统，实现理想的操作平台 Windows XP操作系统下的中文化分析软件，具有强大的数据处理能力，人性化的对话窗口，仪器自检系统，标准配置数据传输软件、密码保护等，为您提高理想的操作平台。 < 标准配置对电极自动清洗功能，软件设置，操作便捷 样品在激发时，样品上的蒸发物聚集在电极尖端上，会影响下一次的分析结果，通常是每次分析后使用电极刷除去附着的蒸发物。 岛津可以采用电极刷的方法除去电极上的试样蒸发物，同时也标准配置有方便的反向放电清洗方式，操作便捷。 良好的扩展功能，高瞻远瞩 < 满足未来分析需求 独具特色的工厂校正工作曲线与现场校正曲线相结合，根据客户的分析需求，应用专家将对此进行完整的评估，确保仪器最佳的分析精度及准确度。 仪器出厂前将预留好分析通道，当客户检测需求发生变化时，可提供现场添加通道服务，进行各种拓展应用，满足未来分析需求。 低使用成本的设计，经济实用 < 可配置氩气节流器，降低使用成本 最优化的低氩气消耗设计。配置氩气节流器后，可以将待机时的氩气流量降低到比常用旁路流量更低的水平，大大降低氩气消耗。(选购件P/N: ) |
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| 系列用途/分析范围 |
| PDS-5500S:钢铁专用机型，可分析碳素钢、中低合金钢、不锈钢、工具钢及铸造铁等。 PDS-5500III:铝合金专用机型，可分析铝硅合金、铝硅铜合金、铝铜合金、铝锌合金、铝镁合金等。 |
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| 分析原理 |
| 光电发射光谱分析是给予金属试样电能，激发蒸发、气化的原子，使用分光器对此时产生的元素特有的光谱进行分光，使用检测器(光电倍增管)测定它的有无和强度，进行定性、定量的分析。 |
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| 构成 |
| 光源部:在激发台中对电极与试样之间产生火花放电，将试样中元素的光谱导入分光部。 分光部:分离和选择元素特有光谱线，同时还包括将此关信号转换为电流信号的传感器。 测光部:测定所得的光电流。 数据处理部:解析和处理测定的数据。 |
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| 主要指标 |
| 分光系统 | | 分光装置 | | | 衍射光栅 | 凹面光栅曲率半径:600mm | | 刻线数 | 2400条/mm | | 波长范围 | 120-589nm | | 温度控制 | 40±0.1℃ | | 光源系统 | | 激发电压 | 500V/300V软件设置自动转换 | | 激发频率 | 可设置3种放电频率(均可在40-500Hz范围内设定)软件设置自动转换 | | 激发条件 | 6种类型 | | 对电极清洗 | 每次放电结束时自动清洗 | | 激发台 | 水平氩气保护发光台 | | 测光系统 | | 测光元器件 | 光电倍增管 | | 测光方式 | PDA测光法 | | 数据处理系统 | | 操作系统 | Windows XP | | CPU | Inter Pentium以上，内存1GB以上 | | 外存装置 | 硬盘160GB以上，光驱 | | 显示器 | 17英寸S-VGA显示器 | | 打印机 | 24针矩阵打印机，打印字数80字/行或136字/行 | | 分析软件 | | 操作软件 | PDA-Win | | 分析条件组数 | 无限(在硬盘内储器容量内) | | 内标准法 | 对每个元素可以指定2个内标 | | 工作曲线 | 256条/组，1~3次式，可通道跳跃 | | 标准样品登录数 | 2000个标准样品/基体 | | 校正处理 | 100%校正，共存元素校正，每个通道16个元素，控样校正及特殊计算 | | 品种判断 | 根据分析结果检索规格 | | 工程管理功能 | 规格判断。R管理/直方图，X-R管理图 | | 数据传输 | RS-232C上位传输，TCP/IP传输(选购件) | | 分析数据处理 | 可将分析结果制作成日报，数据能转换成表格文件，数据库功能 | | 分析情报保护 | 密码保护分析信息 | | 设置场所的环境 | | 面积 | 大约3m×2m以上 | | 温度 | 10~28℃ (每小时变化<5℃) | | 湿度 | 70%以下 | | 参考 | 装置的发热量 | | 气体 | | 氩气 | 纯度99.995%以上，最大氧含量<5ppm，分析高硅样品时，最大氧含量<2ppm | | 电源 | | | 单相 | 200、220、230、240 mn;10%，50/60Hz，4.0kVA | | 地线 | 单独地线<30Ω，干燥地区建议<10Ω，请在仪器的背面附近设置 | | 外形尺寸和重量 | | 主机 | W1550×D620×H1330 | | 外形尺寸 | W230×D475×H253 | | 重量 | 约500kg |
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