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　　无尘室洁净室最主要之作用在于控制产品(如硅芯片等)所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为无尘室。按照国际惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，无尘室哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是必然的要求。

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　　无尘室如表所示，每立方米将小于0.5微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了国际无尘标准的a级。目前应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于a级，这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1k级别。

　　无尘室内之空气过滤器(hepa)进入洁净室，并由无尘室两侧隔间墙板或高架地板回风。气流非直线型运动而呈不规则之乱流或涡流状态。此型式适用于洁净室等级1,000-100,000级。

　　无尘室优点:构造简单、系统建造成本，洁净室之扩充比较容易，在某些特殊用途场所，可并用无尘工作台，提高无尘室等级。

　　缺点:乱流造成的微尘粒子于室内空间飘浮不易排出，易污染制程产品。另外若系统停止运转再激活，欲达需求之洁净度，往往须耗时相当长一段时间。

　　10万级无尘室换气次数一般在25次左右;

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　　无尘室10万级无尘室的洁净标准

　　1.尘粒最大允许数（每立方米）；

　　3.微生物最大允许数；

　　4.浮游菌数不得超过500个每立方米；

　　5.沉隆菌数不得超过10个每培养皿。

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　　无尘室压差:相同洁净度等级的洁净室压差保持一致，对于不同洁净等级的相邻无尘室之间压差要≥5Pa，无尘室与非洁净室之间要≥10Pa。

　　十万级洁净室对温度、湿度无特殊要求时，不产生舒服感为宜，温度一般控制在冬季20~22℃；夏季 24~26℃；波动±2℃。冬季洁净室湿度控制在30－50％，夏季洁净室湿度控制在50－70％。

　　配电:无尘室（区）的主要生产用房一般照度值宜≥300Lx;辅助工作室、人员净化和物料净化用室、气闸室、走廊等的照度值宜为200~300Lx。

　　无尘室层流式空气气流运动成一均匀之直线形，空气由覆盖率100%之过滤器进入室内，并由高架地板或两侧隔墙板回风，此型式适用于洁净室等级需定较高之环境使用，一般其洁净室等级为class1~100。其型式可分为二种:

　　无尘室水平层流式:水平式空气自过滤器单方向吹出，由对边墙壁之回风系统回风，尘埃随风向排出室外，一般在下流侧污染较严重。

　　无尘室优点:构造简单，运转后短时间内即可变成稳定。

　　缺点:建造费用比乱流式高，室内空间不易扩充。

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