详细说明
氧化铈研磨液 氧化铈抛光液
产品特性:
本公司新开发的以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液,该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点,适用于高精密光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。产品使用方便、悬浮性好,抛光效率高、抛光精度达到纳米级,质量稳定可靠。
注意事项:
1.使用前请先摇匀;
2.使用时,可用少量的水加以稀释。
包 装:500 ml/瓶。
储 存:本品需在0 ℃以上储存,防止结冰,在0 ℃以下因产生不可再分散结块而失效。
安全信息:详见本产品的材料安全信息(MSDS)。
应用范围:
1、硅晶圆片抛光;锗片抛光;砷化镓抛光;磷化铟抛光;光学晶体抛光;蓝宝石衬底抛光;
2、LED衬底抛光;硒化锌抛光;光纤连接器抛光;光纤跳线抛光;玻璃抛光;石英抛光;