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PECVD气相沉积设备进口报关时间

时间:2017-04-24 15:07

PECVD气相沉积设备进口报关时间

  PECVD气相沉积设备进口报关部:郑女士 

  本人系万享供应链管理(上海)有限公司的Sunshine,若是有关于进口各类PECVD物理气相沉积设备、PECVD化学气相沉积设备等进口报关时,请一定要提前联系我,以便在清关过程中不出现问题,顺利放行!欢迎来电联系!

  ------------“专业进口报关咨询,3分钟满足你的进口问题”--------------

  旧设备进口报关流程:

  1.签订贸易合同

  2.确认海关编码和监管条件

  3.联系国外中检

  4.海运订舱

  5.单据预审报检

  6.设备换单报关

  7.验货放行

  8.国内物流配送

  9.工厂署地验货

  10.进口清关完毕

  我司操作的相关PECVD的相关案例介绍:

  一、低压化学气相淀积系统(LPCVD,Low Pressure Chemical Vapor Deposition System)

  设备名称:低压化学气相淀积系统

  设备功能:把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入LPCVD设备的反应室,在衬底表面发生化学反应生成薄膜。

  主要企业(品牌):

  国际:日本日立国际电气公司、

  国内:上海驰舰半导体科技有限公司、中国电子科技集团第四十八所、中国电子科技集团第四十五所、北京仪器厂、上海机械厂。

  二、等离子体增强化学气相淀积系统(PECVD,Plasma Enhanced CVD)

  设备名称:等离子体增强化学气相淀积系统

  设备功能:在沉积室利用辉光放电,使其电离后在衬底上进行化学反应,沉积半导体薄膜材料。

  主要企业(品牌):

  国际:美国Proto Flex公司、日本Tokki公司、日本岛津公司、美国泛林半导体(Lam Research)公司、荷兰ASM国际公司。

  国内:中国电子科技集团第四十五所、北京仪器厂、上海机械厂。

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PECVD气相沉积设备进口报关时间