洁净室中的温湿度控制

　　洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。

　　具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。

　　湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。

　　材料选择

　　1选用气密性良好，且依温度变化变形小的材料；墙壁内装需加轻钢龙骨及保温材时，要采用非燃烧材或难燃烧料；

　　2洁净室房间的内墙及吊顶表面，应平滑、光洁、不产生微纹、避免反光、耐腐蚀，在墙壁和底板的拐角做成圆滑形。轻钢龙骨做隔墙，要有防止冲撞措施；

　　3 关于洁净房间的底板，应整体良好、平滑，具有耐磨耗性、耐腐蚀性及耐冲击性。另外，应有防静电及易清洗除尘的功能；

　　4 以轻钢龙骨作为技术检查空间时，在其空间内敷设维修通道至排出口；

　　5 洁净房间及人员洁净室的外墙窗户，要有良好的气密性，有防止漏气及结露的功能；

　　6 洁净房间的门窗形状为简单、平滑、不易留存尘土、容易清扫的结构；不要设门槛；并且为防止因潮气产生细菌或门窗变形，洁净区域内的门窗不能使用木制品；

　　7 洁净房间的窗要向空气洁净度级别高的房间方向打开，并为便于一般设备的安装、修理及交换，窗户应有足够的大小；

　　8 洁净房间安装门窗的内墙面应平整，尽可能不要窗台。如有窗台，为防止存留尘土，且清扫方便，要尽可能做成斜面；

　　9 送递箱两侧的门要有联锁，且气密性良好，容易清扫；

　　10 洁净房间的色彩应淡雅、柔和、有协调感。另外，室内各表面的装修材料的光反射系数，吊顶及墙面为 0. 6-0. 8，地面可为 0. 15-0. 35。

　　11洁净房间内的墙壁和吊顶的涂料应难燃、防裂、耐腐蚀、耐磨耗、表面平滑，采用吸水不变质、不发生霉菌的涂料；

　　12 洁净室墙面和顶棚表面如抹灰， 应采用高级抹灰标准， 养护时间应充分；不得采用因受热、受潮湿影响而产生变形、开裂、霉变、粉化的材料。 抹灰后应刷涂料面层，并应选用难燃、不开裂、耐清洗、表面光滑、不易吸水变质发霉的涂料。

　　光学微电子行业净化工程设计方案分析之无尘车间的特点

　　A、无尘车间的

　　洁净度:

　　LCD制屏的简略流程为:清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷层散布隔垫物→组合→划线和切割→LC注入→贴偏振片→制屏终检。

　　在本设计里是指末端工艺的一些无尘车间，其净化洁净度一般为千级或万级或十万级。背光屏类无尘车间主要是这类产品的冲压车间、组装等无尘车间，其洁净度一般为万级或十万级。

　　B、室内空气参数要求 :

　　(1)温湿度要求:温度一般为24 2℃，相对湿度为55 5%。

　　(2)新风量大。由于这类车间内，人员比较多，可以根据以下数值应取下列的值:非单向流洁净室总送风量的10-30%;补偿室内排风和保持室内正压值所需的新鲜空气量;保证室内每人每小时的新鲜 空气量≥40m3/h。

　　(3)送风量大。为了满足洁净室内的洁净度及热湿平衡，需要较大的送风量，就300平方米的车间，吊顶高度为2.5米的，如果是万级，送风量就需要300×2.5×30=两万两千五m3/h的送风量(换气次数，是≥25次/h);如果是十万级，送风量就需要300×2.5×20=一万五千m3/h的送风量(换气次数，是≥15次/h)。

　　光学微电子行业净化工程设计方案分析

　　对于常规电子厂房洁净室空调的设计，应根据电子厂房的生产工艺要求及甲方的经济条件来选用哪种空调设计方案，以满足生产工艺的要求作为前提。根据以往经验，对于要求高的可以选用组合式空气处理机组集中处理的空调方案;对于要求不高的，又要初投资低的，可以选用柜机 FFU。总之，具体的方案选择根据具体情况而定。