厦门塑胶模具清洗剂厂家供应

　　工业清洗剂有哪些技术要求？ 用于工业污垢清洗的化学制剂，一般应满足下述的技术要求。用于不同的清洗目的与清洗对象的清洗剂，对于这些要求可以有所侧重或取舍。清洗污垢的速度快，溶垢彻底。清洗剂自身对污垢有很强的反应、分散或溶解清除能力，在有限的工期内，可较彻底地除去污垢。清洗剂对生物与环境或低毒，所生成的废气，废液与废渣，应能够被处理到符合国家相关法规的要求。对清洗对象的损伤应在生产许可的限度内，对金属可能造成的腐蚀有相应的抑制措施。

　　半水基型清洗剂也叫准水基型清洗剂，是由高沸点溶剂及活性剂等组成如醇类，有机烃类等。通常含有5%一20%的水分，一般不易燃烧，但加温清洗时水含量控制不当，可能产生燃烧现象。半水基型清洗与溶剂洗有一些不同，它的清洗原理是剥离去除，而不是溶解。为了防止已经剥落的油污再附到被清洗物上，清洗液要连续地循环，并增加油水分离器。半水洗通常清洗效果很好，但运行成本较高，废液不能再生回收，重复使用，含COD（化学耗氧量）较高，需要进行废水处理。

　　7、, P$ S化学稳定性:。耐碱为浸入600C、浓度为10%氢氧化钠溶液中5分钟后，ITO层方块电阻变化值不超过10%耐酸为浸入250C、浓度为6%k酸溶液中5分钟后，ITO层方块电阻变化值不超过10%耐溶剂为在250C、丙酮、无水乙醇或 100份去离子水加3分EC101配制成的清洗液中 5分 钟后，ITO层方块电阻变化值不超过10% .ZS - A S（ 41F8 II M附着力:在胶带贴附在膜层表面并迅速撕下，膜层无损伤；或连撕三次后，ITO层方块电阻变化值不超过10%热稳定性:在3000c的空气中，加热 30分钟后，ITO导电膜方块电阻值应不大于原方块电 阻的300%5 D M! G &

　　超声波采用效率高达95%的发生器，功率0-100%可调；采用40KHZ、68KHZ 80KHZ等高频超声波频率。高压喷淋能够有效的解决后段工序的纯水洁净度，有效降低纯水用量。3.的慢拉脱水、循环热风干燥方式，即又。多槽超声波清洗工艺，清洗效果。高度标准化:工艺纯熟，经验。使用范围:适用于各种光学产品清洗，例如，液晶基板元器件，TFT, 液晶玻璃，等清洗。清洗助理:此多道设计有效的解决产品污垢。8.传动系统:全自动多臂式自动搬用机构,采用全铝式机械结构,运行平稳,整体构造强，维修便捷，技术成熟。功能:液晶玻璃清洗机采用(三菱)私服电机能够有效的控制机器各个传动部分的速度,采用定位(私服电机+感应器)清洗蓝落入槽内准确,各工位清洗时间可调。在整个超声波清洗中清洗效率不仅仅与超声波换能器质量和超声波发生器性能有关,还有就是超声波设备的故障率也有关系,甚至像一些微小的细节也会影响着超声波清洗机的清洗效率。