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　　氢氟酸在实验室中的使用

　　实验室中，氢氟酸常用于消解硅酸盐样品或清洗石英器皿，但操作需极度谨慎。建议使用低浓度（如5%以下）溶液以降低风险，并在通风橱中佩戴双重防护手套。盛放容器必须标有醒目警示标签，与其他酸类分开放置。实验后废液需单独收集，用氢氧化钙中和至pH>7后再处置。因危险性高，许多实验室已逐步改用替代试剂（如氟化铵缓冲液），但某些特殊反应仍需氢氟酸参与。

　　通过氟从铀矿中提取铀，因为铀和氟的化合物很易挥发，用分馏法可以把它和其它杂质分开，得到十分纯净的铀，铀是制造原子弹的原料。在铀的化合物中，只有氟化物具有很好的挥发性能。4、氟气还用于金属的焊接和切割、电镀、玻璃加工、物、农、离子蚀刻等。 别名: 氢氟酸;氟化氢;氟化氢(无水);氟氢酸;氟化氢溶液;无水氟化氢;无水氢氟酸;电子级氢氟酸;氟氢酸HF acid;工业氟氢酸;工业氢氟酸;工业氢氟酸,HF;化学试剂氢氟酸;化学试剂氢氟酸,HF;氢氟酸 分析纯;氢氟酸,HF;无水氟化氢,aHF;有水氢氟酸;氟氢酸,HF;工业氢氟酸,HF acid;无水氟化,氟化氢;不锈钢酸洗钝化膏;氢氟酸, 48 TO 51% SOLUTION IN WATER;琼脂QFS;氢氟酸, 99.99% (METALS BASIS) 40% MIN;氢氟酸 危险品;氢氟酸, ACS试剂, 48.0 - 51.0% 氟化氢;氢氟酸, 40 WT.% 水溶液, 用于分析

　　参考:Razavi-7章 CMOS工艺技术-519暴力讲解半导体中的“氮化硅”

　　制造从约1mm厚的p型硅晶片开始。在清洁和抛光工序后,在晶片表面生长一层作为保护层的二氧化硅薄层,见图17.8(a)。接着,制作n阱,光刻工序包括光刻胶涂敷、用n阱掩模版进行紫外线曝光和选择性刻蚀,然后进行n卧离子注入,见网17.8(b),之后,去除无用的光刻校和氧化层.见图17.8（C）。

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　　10. Norrild, J. C.; Pedersen, C.; Soetofte, I. Carbohydr. Res., 1997, 297, 261.氢氟酸又称氟化氢酸，是氟化氢的水溶液，分子式为HF。无有毒、有强的腐蚀性和刺激性，市售的氢氟酸一般含氟化氢 40%，易挥发，置于空气中即冒白烟。它的酸性在氢卤酸中是弱的，但腐蚀性很强，能腐蚀玻璃和许多金属。故不能用玻璃作容器。可用以在玻璃上刻画花纹。工业用氢氟酸可由氟石（CaF2）和浓硫酸反应制得。是制造氟酸盐的主要原料。本品有剧毒、在空气中高容许浓度为1mg/m3，对金、铂、铅、石蜡及某些塑料不起腐蚀作用。无论是液态或气态刺激眼、皮肤及呼吸道，与皮肤接触立即引起烧伤并剧痛。液体与眼睛接触立即造成失明。应存放在通风阴凉处，避免阳光直射，远离火种热源，切忌与H发孔剂、氰化物、金属粉末、碱等接触，以防发生意外。装卸时要轻拿轻放，渗漏。渗漏时地面上撒上苏打石灰，用水冲洗，消防方法可用干粉，二氧化碳、雾状水，不宜用加压水，以防冲洗时溅出。操作人员应戴防毒面具与手套，切勿触及皮肤，当误触皮肤发生腐烂，则立即用清水冲洗伤口20分钟。再作医治。也可在灼伤处涂敷氧化镁甘油软膏、或擦稀氨水，并就医诊治。

　　肌肤敏感:氢氟酸属于一种具有强烈腐蚀性的化学物质，有些人的肌肤较为敏感，接触该类物质后会出现此类现象，建议用大量清水对手部进行冲洗，至少持续20分钟。2、软组织受损:氢氟酸搞到手上后，容易使得部软组织受损，进而会引起部很痛，此时需要使用冰袋或冷毛巾对手部进行冰敷，有助于收缩血管，减少部血液循环，从而减轻疼痛和肿胀。冰敷时间不宜过长，每次约15-20分钟，以免对皮肤造成。存在创面:该部位接触上述物质后，皮肤受到明显腐蚀，容易使得部形成创面，进而会导致明显疼痛、出血等现象，应使用碘伏或双氧水等剂对患处进行处理，以杀灭可能存在的细菌，预防。4、过敏:部分人群可能会对此类物质过敏，接触这类物质后会引起过敏现象，引起上述情况，有时还会伴随皮肤瘙痒、红疹等现象，应听从医生建议使用炉甘石洗剂、氯雷他定片等物。