顺德石英砂酸洗55%氢氟酸厂

　　氢氟酸的储存与运输规范

　　氢氟酸储存需避光、低温，置于通风良好的防泄漏托盘内，远离活泼金属（如钠）和碱性物质。运输时须符合危险化学品法规，使用耐压聚乙烯桶并标注“腐蚀性”和“有毒”标志。车辆应配备防漏应急包，驾驶员需持有危险品运输资质。国际运输还需遵守《联合国关于危险货物运输建议书》，确保包装通过密封性和抗冲击测试。任何运输途中泄漏都需立即隔离现场，由专业人员处理。

　　用雾状水、泡沫灭火。灭火时戴氧气防毒面具和全身防护服。酸液溅及皮肤。 包装标志:腐蚀品和毒害品。包装方法:(I)(II)类。聚乙烯或聚四氟乙烯塑料桶。储运条件:储存于通风的不燃库房。避免阳光直射。远离火种、热源。切忌接触H发孔剂、氰化物、金属粉末、碱类等。工作人员穿戴用聚氯乙烯或氯丁橡胶制的防护用品(包括长袖工作服、防毒面具、面罩或化学防护镜、帽、手套和脚套)。并备有淋浴和洗眼睛设备供工作人员工作后清洗。

　　将无水氢氟酸（国家标准）经化学预处理后，进入精馏塔通过精馏操作，得到的氟化氢气体经冷却后，在吸收塔中用超纯水吸收，并采用控制喷淋密度、气液比等方法使电子级氢氟酸进一步纯化，随后经0.2μm以下超滤工序，在密闭洁净环境条件下（百级以下） 进行灌装得到产品———电子级氢氟酸。目前国内外制备电子级氢氟酸的常用提纯技术有精馏、蒸馏、亚沸蒸馏、减压蒸馏、气体吸收等技术，这些提纯技术各有特性，各有所长。如亚沸蒸馏技术只能用于制备量少的产品，气体吸收技术可以用于大规模的生产。

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　　23、 热氧化利用氧化技术，在晶圆表面形成一层氧化层。24、 NMOS 源和漏形成涂布光刻胶后，利用光刻技术形成NMOS源与漏区域的屏蔽，再利用离子注入技术将砷元素注入源与漏区域，而后将晶圆表面的光刻胶去除。

　　25、 PMOS 源和漏形成利用光刻技术形成PMOS源及漏区域的屏蔽之后，再利用离子注入技术将硼元素注入源及漏区域，而后将晶圆表面之光刻胶去除。

　　26、 未掺杂的氧化层化学气相淀积利用等离子体增强化学气相沉积( PECVD )技术沉积一层无掺杂的氧化层，保护器件表面，免于受后续工艺。27、 CMOS 源和漏的活化与扩散利用退火技术，将经离子注入过的漏及源进行电性活化及扩散处理。

　　为什么氢氟酸能对人体造成如此大的危害呢？1.氢氟酸具有强烈腐蚀性。硫酸、盐酸一类的酸性物质烧伤往往会在皮肤表面形成凝固性坏死，起到一定的屏障作用，但氢氟酸接触到皮肤，穿透力强的氟离子不断地渗透到深层组织，溶解细胞膜，进行性造成部皮肤、皮下组织乃至肌层液化坏死、骨组织脱钙，引起深部组织迟发性剧烈疼痛。 2.继发的低钙血症和高氟血症。氟离子迅速与体内钙、镁离子反应，形成不溶性氟化钙，引起血钙浓度降低。即便烧伤面积不大（>1%TBSA），如果现场抢救不及时，也可能出现心脏骤停，危及生命！