番禺工业55%氢氟酸生产厂

　　氢氟酸与环境污染

　　氢氟酸泄漏对环境的危害极大，其氟离子可污染土壤和水体，抑制微生物活动，破坏生态平衡。酸性废水会腐蚀管道并渗入地下水，长期累积可能造成动植物氟中毒，表现为牙齿斑驳、骨骼畸形。工业排放需严格控制在ppm级，并通过中和沉淀法（如添加石灰生成氟化钙）处理废水。历史上多起氢氟酸事故（如1987年美国德克萨斯州泄漏事件）警示我们需加强储存运输监管，避免大规模生态灾难。

　　(二)氢鼓泡和氢脆氢氟酸介质与碳钢接触生成氟化铁和氢原子: Fe十2HF→FeF2十2H 氟化铁是一种致密的锈蚀物，附在金属表面形成一种保护膜，使氟化氢的扩散速度降低。对设备起到保护作用。但当介质温度超过65℃时，该层锈蚀物的保护膜就将剥落，使金属继续被腐蚀。 腐蚀反应产生的氢原子对钢材有很强的渗透能力。这种渗透能力与温度有关，温度越高，渗透越强。(三)应力腐蚀应力腐蚀是材料在应力和特定介质共同作用下所引起的材料开裂。在氢氟酸中碳钢和蒙乃尔合金均可能产生应力腐蚀开裂。这种应力腐蚀是随温度的增加而加剧。

　　EL级:金属杂质含量低于100mg/kg，控制1.00um粒径粒子，达到SEMI C1，C2标准，适合中小规模集成电路及电子元件加工工艺。电子级氢氟酸的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及性都有着十分重要的影响。因此使用电子级氢氟酸的下游企业通常不会轻易更换供应商，生产企业一般需要花较长时间来获得用户。 电子级氢氟酸是微电子行业的关键性基础化工材料之一，主要用于集成电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)制造中，用于晶圆表面清洗、芯片加工过程中的清洗和蚀刻等工序。在太阳能光伏行业中，用于硅片表面清洗、蚀剂等领域。硅锭到硅片，再到电池片的道工艺程序:清洗制绒环节会用到产品。在液晶显示器行业，用于玻璃基板清洗、氮化硅、二氧化硅蚀剂等。在TFT—LCD、半导体产业中也被广泛使用。还可用作分析试剂、原子能工业化学试剂和制备高纯度的含氟化学品。

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　　去除氮化硅将晶圆表面的氮化硅，利用干法刻蚀的方法将其去除掉。6、P阱离子注入利用离子注入的技术，将硼打入晶圆中，形成P 型阱。接着利用无机溶液，如硫酸或干式臭氧（O3）烧除法将光刻胶去除。

　　7、P 阱退火及氧化层的形成将晶圆放入炉管中，做高温的处理，以达到硅晶圆退火的目的，并且顺便形成一层n型阱的离子注入mask 层，以阻止下一步骤中﹝n型阱的离子注入﹞，n型掺杂离子被打入P型井内。

　　通过氟从铀矿中提取铀，因为铀和氟的化合物很易挥发，用分馏法可以把它和其它杂质分开，得到十分纯净的铀，铀是制造原子弹的原料。在铀的化合物中，只有氟化物具有很好的挥发性能。4、氟气还用于金属的焊接和切割、电镀、玻璃加工、物、农、离子蚀刻等。 别名: 氢氟酸;氟化氢;氟化氢(无水);氟氢酸;氟化氢溶液;无水氟化氢;无水氢氟酸;电子级氢氟酸;氟氢酸HF acid;工业氟氢酸;工业氢氟酸;工业氢氟酸,HF;化学试剂氢氟酸;化学试剂氢氟酸,HF;氢氟酸 分析纯;氢氟酸,HF;无水氟化氢,aHF;有水氢氟酸;氟氢酸,HF;工业氢氟酸,HF acid;无水氟化,氟化氢;不锈钢酸洗钝化膏;氢氟酸, 48 TO 51% SOLUTION IN WATER;琼脂QFS;氢氟酸, 99.99% (METALS BASIS) 40% MIN;氢氟酸 危险品;氢氟酸, ACS试剂, 48.0 - 51.0% 氟化氢;氢氟酸, 40 WT.% 水溶液, 用于分析