南朗工业级55%氢氟酸公司地址

　　氢氟酸在实验室中的使用

　　实验室中，氢氟酸常用于消解硅酸盐样品或清洗石英器皿，但操作需极度谨慎。建议使用低浓度（如5%以下）溶液以降低风险，并在通风橱中佩戴双重防护手套。盛放容器必须标有醒目警示标签，与其他酸类分开放置。实验后废液需单独收集，用氢氧化钙中和至pH>7后再处置。因危险性高，许多实验室已逐步改用替代试剂（如氟化铵缓冲液），但某些特殊反应仍需氢氟酸参与。

　　EL级:金属杂质含量低于100mg/kg，控制1.00um粒径粒子，达到SEMI C1，C2标准，适合中小规模集成电路及电子元件加工工艺。电子级氢氟酸的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及性都有着十分重要的影响。因此使用电子级氢氟酸的下游企业通常不会轻易更换供应商，生产企业一般需要花较长时间来获得用户。 电子级氢氟酸是微电子行业的关键性基础化工材料之一，主要用于集成电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)制造中，用于晶圆表面清洗、芯片加工过程中的清洗和蚀刻等工序。在太阳能光伏行业中，用于硅片表面清洗、蚀剂等领域。硅锭到硅片，再到电池片的道工艺程序:清洗制绒环节会用到产品。在液晶显示器行业，用于玻璃基板清洗、氮化硅、二氧化硅蚀剂等。在TFT—LCD、半导体产业中也被广泛使用。还可用作分析试剂、原子能工业化学试剂和制备高纯度的含氟化学品。

　　密封保存在阴凉的地方。二氧化硅的测定冶金金相分析硅化合物分析。制造氟化物。铜清洁剂。玻璃蚀刻 泄漏:将人员从泄漏污染区域疏散到区域，隔离并严格限制进入。建议应急人员佩戴自给式正压呼吸器，穿防酸碱工作服。不要直接接触泄漏。尽量切断泄漏源，其进入下水道和排水沟等受限空间。 少量泄漏:与沙子、干石灰或纯碱混合。也可以用大量的水冲洗，稀释后放入废水系统。

　　大量漏水:筑堤或挖坑容纳;通过泵转移至槽车或收集器，回收或运输至废物处置场进行处置。可燃性:不可燃。 灭火剂:雾状水和泡沫。

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　　肌肤敏感:氢氟酸属于一种具有强烈腐蚀性的化学物质，有些人的肌肤较为敏感，接触该类物质后会出现此类现象，建议用大量清水对手部进行冲洗，至少持续20分钟。2、软组织受损:氢氟酸搞到手上后，容易使得部软组织受损，进而会引起部很痛，此时需要使用冰袋或冷毛巾对手部进行冰敷，有助于收缩血管，减少部血液循环，从而减轻疼痛和肿胀。冰敷时间不宜过长，每次约15-20分钟，以免对皮肤造成。存在创面:该部位接触上述物质后，皮肤受到明显腐蚀，容易使得部形成创面，进而会导致明显疼痛、出血等现象，应使用碘伏或双氧水等剂对患处进行处理，以杀灭可能存在的细菌，预防。4、过敏:部分人群可能会对此类物质过敏，接触这类物质后会引起过敏现象，引起上述情况，有时还会伴随皮肤瘙痒、红疹等现象，应听从医生建议使用炉甘石洗剂、氯雷他定片等物。

　　氢氟酸英文名 hydrofluoric acid，分子式HF，分子量 20. 01，为无透明液体 ，相对密度1. 15～1 . 18，沸点 112 . 2 ℃，在空气中发烟 ，有刺激性气味 ，剧毒；能与一般金属、 金属氧化物以及氢氧化物发生反应 ，生成各种盐类；腐蚀性强 ，能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅；易溶于水、醇 ，难溶于其他有机溶剂。高纯氢氟酸为强酸性清洗、腐蚀剂 ，可与硝酸、冰醋酸、 双氧水及氢氧化铵等配置使用