详细说明
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产品参数
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品牌:希芮
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公司行业:化工
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服务项目:过氧化物
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公司区域:广州
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用途:污水处理
- 产品优势
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产品特点:
安徽 中成 洗染专用保险粉、中成雕白块(粉),双氧水、氢氟酸、(进口/国产)珠碱、纯碱、聚丙烯酰铵离子,焦亚硫酸钠,亚硫酸钠、聚合氯化铝 磷酸,片碱、磷酸三钠,五水偏硅酸钠各种电镀原料,洗染原料,污水处理原料。
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服务特点:
广东省内可送货上门:省外支持物流发货。
福建工业氟化氢铵公司有哪些
氢氟酸在实验室中的使用
实验室中,氢氟酸常用于消解硅酸盐样品或清洗石英器皿,但操作需极度谨慎。建议使用低浓度(如5%以下)溶液以降低风险,并在通风橱中佩戴双重防护手套。盛放容器必须标有醒目警示标签,与其他酸类分开放置。实验后废液需单独收集,用氢氧化钙中和至pH>7后再处置。因危险性高,许多实验室已逐步改用替代试剂(如氟化铵缓冲液),但某些特殊反应仍需氢氟酸参与。
白或无透明的正方晶系结晶,商品呈片状,在-14.8℃-126.1℃下NH4HF2--H20体系中没有水合物,略带酸味,在空气中易潮解,微溶于乙醇,易溶于冷水,在热水中分解,水溶液呈强酸性,在较高温度下能升华,能腐蚀玻璃,氟化氢铵有度,对皮肤有腐蚀性,宜密闭于塑料容器中.主要用于磨砂玻璃生产中玻璃刻蚀剂(与氢氟酸并用),可用作化学试剂、发酵工业和防腐剂、由氧化铍制金属铍的溶剂及硅钢板的表面处理剂。还用于制造陶瓷、镁合金、锅炉给水系统和蒸汽发生系统的清洗脱垢,以及油田砂石的酸化处理。也用作烷基化异构化催化剂组分。
19、 电氧化层的形成此步骤为制做CMOS的关键工艺,利用热氧化法在晶圆上形成高品质的二氧化硅,做为电氧化层。20、 电多晶硅的淀积利用低压化学气相沉积(LPCVD)技术在晶圆表面沉积多晶硅,以做为连接导线的电。
21、 电掩膜的形成涂布光刻胶在晶圆上,再利用光刻技术将电的区域定义出来。
22、 活性离子刻蚀利用活性离子刻蚀技术刻蚀出多晶硅电结构,再将表面的光刻胶去除。
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金属溶解液:氢氟酸可以与其他无机酸配合用作金属溶解液,在环境样品的微量元素分析之前进行常规的酸消解程序。固体样品和那些通常积累于汽车上的颗粒物质具有相似的属性或化学成分。对下水道污泥样品的研究显示,可以使用氢氟酸、硝酸、高氯酸和王水配成金属溶解液测定镉、铬、铜、铁、镍、铅和锌的浓度。另一研究显示可以使用硝酸和硫酸混合液,冷蒸气原子吸收光谱法测定白星眼的汞浓度;也可以采用硝酸和氢氟酸混合液,采用电感耦合等离子体质谱法测定汞浓度。将微波消解系统应用于环境样品测定时,在消解过程中使用氢氟酸可以使灰尘样本而迅速的消解。使用硝酸或王水消解灰尘样品,析出的铅和镉超过80%。使用氢氟酸-硝酸混合液,析出的铅和镉超过90%。氢氟酸也可被用于消解含有放射性元素的地质样品。在样品被氢氟酸解析后,氢氟酸被铂元素组洗脱的络合物,而氟络合物在阳离子交换树脂上的分布系数接近零。
15、氮化硅的刻蚀以活性离子刻蚀法去除氧化区域上的氮化硅。接着再将光刻胶去除。16、元件隔离区的氧化利用氧化技术,长成一层二氧化硅膜,形成器件的隔离区。
17、 去除氮化硅利用热磷酸湿式蚀刻的方法将其去除掉。
18、 利用氢氟酸去除电区域的氧化层
除去氮化硅后,将晶圆放入氢氟酸化学槽中,去除电区域的氧化层,以便能在电区域重新成长品质的二氧化硅薄膜,做为电氧化层。