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　　氢氟酸的历史与发现

　　氢氟酸的发现可追溯至17世纪，当时瑞典化学家舍勒首次从萤石（CaF₂）中制得氟化氢。19世纪初，法国科学家盖·吕萨克和泰纳尔提纯了无水氢氟酸，并发现其腐蚀玻璃的特性。工业规模化生产始于20世纪，随着制冷剂和原子能需求增长。历史上，氢氟酸曾用于铀浓缩（曼哈顿计划），也因战争用途蒙上阴影。如今，其应用更偏向民用高科技领域，但安全争议始终存在。

　　28、 淀积含硼磷的氧化层加入硼磷杂质的二氧化硅有较低的溶点，硼磷氧化层(BPSG)加热到摄氏800度时会有软化流动的特性，可以利用来进行晶圆表面初级平坦化，以利后续光刻工艺条件的控制。29、 接触孔的形成涂布光刻胶，利用光刻技术形成层接触金属孔的屏蔽。再利用活性离子刻蚀技术刻蚀出接触孔。30、 溅镀 Metal1利用溅镀技术，在晶圆上溅镀一层钛／氮化钛／铝／氮化钛之多层金属膜。

　　总之，本研究的关键在于通过机械力成功聚合物内的反应机制，从而实现了自增强式的HF释放，这是聚合物降解领域的一次重要突破。这项技术的应用潜力广泛，不仅提供了新的材料处理方法，还可能对未来的环境友好材料和智能材料的开发产生深远影响。基于此，未来不仅能够实现传统材料的处理，也能够推动新型功能材料的发展。在金属表面处理中，我们常常用到氢氟酸 ，主要用于除锈、除氧化皮、抛光等，但是在使用过程中一不小心可能酿成大祸，这不是危言耸听，更不是掩耳盗铃，而是令人毛骨悚然的存在，在实际使用过程中对人体的伤害程度是远大于硫酸，盐酸、硝酸等。氢氟酸虽然是弱酸，但是表面出来的杀伤力甚至比我们通常所见过的强酸都恐怖。

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　　35、 淀积介电层淀积一层介电层上。

　　36、 Metal2 接触通孔的形成利用光刻技术及活性离子刻蚀技术制作通孔（Via），以作为两金属层之间连接的孔道，之后去掉光刻胶。

　　37、Metal2的形成沉积第二层金属膜在晶圆上，利用光刻技术制作出第二层金属的屏蔽，接着蚀刻出第二层金属连接结构。38、淀积保护氧化层利用PECVD 方法沉积出保护氧化层。

　　及时就医。（1）氢氟酸（HF）可用来在玻璃（主要成分:SiO2）上雕刻各种精美图案，雕刻过程中发生的反应为4HF+SiO2=R↑+2H2O，则R的化学式为．

　　（2）用稀盐酸清洗铁器上的铁锈化学方程式为．

　　（3）农“波尔多液”可以杀灭柑橘上的害虫，它是将熟石灰加入硫酸铜溶液中搅拌而成，其混合时反应的化学方程式为；不能使用铁制容器的原因是（写化学方程式，该反应类型为反应．