板芙工业级55%氢氟酸厂家报价

　　氢氟酸的工业应用

　　氢氟酸在工业中用途广泛，尤其在半导体制造、石油炼化和金属加工领域。在电子行业，它用于蚀刻硅晶圆，清除表面氧化物层；在石化工业中，它作为催化剂参与烷基化反应，生产高辛烷值汽油。此外，氢氟酸还用于不锈钢酸洗、稀土提取和制冷剂合成。尽管其危险性高，但因无可替代的化学性质，工业上仍大量使用，并采取严格的防护措施，如密闭操作、防腐蚀设备及应急冲洗装置。

　　19、 电氧化层的形成此步骤为制做CMOS的关键工艺，利用热氧化法在晶圆上形成高品质的二氧化硅，做为电氧化层。20、 电多晶硅的淀积利用低压化学气相沉积（LPCVD）技术在晶圆表面沉积多晶硅，以做为连接导线的电。

　　21、 电掩膜的形成涂布光刻胶在晶圆上，再利用光刻技术将电的区域定义出来。

　　22、 活性离子刻蚀利用活性离子刻蚀技术刻蚀出多晶硅电结构，再将表面的光刻胶去除。

　　10. Norrild, J. C.; Pedersen, C.; Soetofte, I. Carbohydr. Res., 1997, 297, 261.氢氟酸又称氟化氢酸，是氟化氢的水溶液，分子式为HF。无有毒、有强的腐蚀性和刺激性，市售的氢氟酸一般含氟化氢 40%，易挥发，置于空气中即冒白烟。它的酸性在氢卤酸中是弱的，但腐蚀性很强，能腐蚀玻璃和许多金属。故不能用玻璃作容器。可用以在玻璃上刻画花纹。工业用氢氟酸可由氟石（CaF2）和浓硫酸反应制得。是制造氟酸盐的主要原料。本品有剧毒、在空气中高容许浓度为1mg/m3，对金、铂、铅、石蜡及某些塑料不起腐蚀作用。无论是液态或气态刺激眼、皮肤及呼吸道，与皮肤接触立即引起烧伤并剧痛。液体与眼睛接触立即造成失明。应存放在通风阴凉处，避免阳光直射，远离火种热源，切忌与H发孔剂、氰化物、金属粉末、碱等接触，以防发生意外。装卸时要轻拿轻放，渗漏。渗漏时地面上撒上苏打石灰，用水冲洗，消防方法可用干粉，二氧化碳、雾状水，不宜用加压水，以防冲洗时溅出。操作人员应戴防毒面具与手套，切勿触及皮肤，当误触皮肤发生腐烂，则立即用清水冲洗伤口20分钟。再作医治。也可在灼伤处涂敷氧化镁甘油软膏、或擦稀氨水，并就医诊治。

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　　六、如何减少或消除氢氟酸酸雾产生?置于干燥的环境中，酸雾的产生式因为空气中有水，所以你才可以看到酸雾

　　七、废氢氟酸怎么处理？

　　并不是的酸、碱溶液采用中和法进行处理的。如氢氟酸排放液的后处理，它不仅考虑排放液的pH值达到标准，还考虑F-的浓度不能大于国家规定的排放标准。因此，对于氢氟酸废液的处理只能采用石灰中和法，既提高排放液的pH值到6～9，还降低游离F-离子的浓度到10毫克/升以下，方可排放。石灰用量一般不低于纯氢氟酸量的2倍。

　　可经皮肤吸收，氢氟酸酸雾经呼吸道吸入。对皮肤有强烈刺激性和腐蚀性。 氢氟酸中的氢离子对人体组织有脱水和腐蚀作用，而氟是活泼的非金属元素之一，与氢离子结合较牢(电离常数K=3.5×10^-4)。皮肤与氢氟酸接触后，非离子状态的HF不断解离而渗透到深层组织，溶解细胞膜，造成表皮、真皮、皮下组织乃至肌层液化坏死。氟离子与组织中的钙和镁离子结合形成难溶性盐。钙离子的减少使细胞膜对钾离子的通透性增加，钾离子从细胞内到细胞外导致神经细胞的去化而引起剧痛。