详细说明
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产品参数
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品牌:希芮
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公司行业:化工
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服务项目:过氧化物
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公司区域:广州
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用途:污水处理
- 产品优势
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产品特点:
安徽 中成 洗染专用保险粉、中成雕白块(粉),双氧水、氢氟酸、(进口/国产)珠碱、纯碱、聚丙烯酰铵离子,焦亚硫酸钠,亚硫酸钠、聚合氯化铝 磷酸,片碱、磷酸三钠,五水偏硅酸钠各种电镀原料,洗染原料,污水处理原料。
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服务特点:
广东省内可送货上门:省外支持物流发货。
惠东工业级氢氟酸公司推荐
氢氟酸的工业应用
氢氟酸在工业中用途广泛,尤其在半导体制造、石油炼化和金属加工领域。在电子行业,它用于蚀刻硅晶圆,清除表面氧化物层;在石化工业中,它作为催化剂参与烷基化反应,生产高辛烷值汽油。此外,氢氟酸还用于不锈钢酸洗、稀土提取和制冷剂合成。尽管其危险性高,但因无可替代的化学性质,工业上仍大量使用,并采取严格的防护措施,如密闭操作、防腐蚀设备及应急冲洗装置。
半导体具有许多的物理性质,这与半导体中电子的状态及其运动特点有密切关系。为了研究和利用半导体的这些物理性质,需要明白半导体单晶材料中的电子状态及其运动规律。半导体单晶材料和其它固态晶体一样,是由大量原子周期性重复排列而成,而每个原子又包含原子核和许多电子。如果能够写出半导体中相互作用着的原子核和电子系统的薛定谔方程,并求出其解,便可以了解半导体的许多物理性质。但是,这是一个复杂的多体问题,不可能求出其严格解,只能用近似的处理方法-单电子近似来研究固态晶体中电子的能量状态。**所谓单电子近似,即假设每个电子是在周期性排列且固定不动的原子核势场及其它电子的平均势场中运动。**该势场是具有与晶格同周期的周期性势场:用单电子近似法研究晶体中电子状态的理论称为能带论。有关能带论的内容在固体物理学课程中已经比较完整地介绍过了,这里仅作简要回顾,并介绍几种重要半导体材料的能带结构。
氟是活泼的非金属,,它的原子半径很小,它的化和物常常有的性质2.氢氟酸中的氟离子的半径很小,甚至小于氧离子,这导致它有很强的渗透性,致密的氧化物也不能阻止它的渗透(这点主要)
当氢氟酸腐蚀皮肤的时候,它作为中强酸,开始对皮肤腐蚀,同时氟离子会向皮肤下的肌肉组织渗透,继而腐蚀皮肤下面的肌肉,如果不及时处理,它还会渗透到里边的骨头上,腐蚀骨头。被氢氟酸腐蚀的皮肤很难愈合,同时伴有剧烈的疼痛。其他的强酸,强碱没有这种渗透性.同时氢氟酸和盐酸一样有很强的挥发性,会产生酸雾,这更增强了它的腐蚀性。
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灭火注意事项:消防员佩戴氧气呼吸器,穿全身防护服。 1.在协助过程中,应穿戴适当且的个人防护装备,以确保自身。
2.清除污染源或将患者转移到空气新鲜流通的地方。
3.如果呼吸停止,受训者应立即进行人工呼吸和心肺复苏。避免口对口接触,在医生指导下给氧。
避免直接接触化学品,必要时戴上防渗手套。2.立即用预氟或六氟溶液冲洗患处。并在洗涤时脱去被污染的衣物,以化学物质通过衣物扩大与身体的接触面积。 3.如果现场没有prevor六氟化硫,立即用流动的温水冲洗患处15分钟以上。冲洗时脱掉被污染的衣服。然后在受伤部位涂抹2.5%葡萄糖酸钙凝胶。
参考:Razavi-7章 CMOS工艺技术-519暴力讲解半导体中的“氮化硅”
制造从约1mm厚的p型硅晶片开始。在清洁和抛光工序后,在晶片表面生长一层作为保护层的二氧化硅薄层,见图17.8(a)。接着,制作n阱,光刻工序包括光刻胶涂敷、用n阱掩模版进行紫外线曝光和选择性刻蚀,然后进行n卧离子注入,见网17.8(b),之后,去除无用的光刻校和氧化层.见图17.8(C)。