南海工业级55%氢氟酸生产厂

　　氢氟酸在实验室中的使用

　　实验室中，氢氟酸常用于消解硅酸盐样品或清洗石英器皿，但操作需极度谨慎。建议使用低浓度（如5%以下）溶液以降低风险，并在通风橱中佩戴双重防护手套。盛放容器必须标有醒目警示标签，与其他酸类分开放置。实验后废液需单独收集，用氢氧化钙中和至pH>7后再处置。因危险性高，许多实验室已逐步改用替代试剂（如氟化铵缓冲液），但某些特殊反应仍需氢氟酸参与。

　　硅的一个独有的特性是,可以在共表耐生成均匀的氧化层而几乎不在晶格中产生应力,从而允许棚氧化层的制造薄到几十埃(只有几个原子层),除了作为栅的缘材料外,二氧化硅在很多制造工序中可以作为保护层,在器件之间的区域,也可以生成一层称为“场氧 (FOX)的厚SiO2层,使后面的工序可以在其上制作互连线。1、初始清洗初始清洗就是将晶圆放入清洗槽中，利用化学或物理的方法将在晶圆表面的尘粒或杂质去除，这些杂初始清洗就是将晶圆放入清洗槽中，利用化学或物理的方法将在晶圆表面的尘粒或杂质去除，这些杂质尘粒，对后续的工艺造成影响，使得器件无法正常工作。

　　EL级:金属杂质含量低于100mg/kg，控制1.00um粒径粒子，达到SEMI C1，C2标准，适合中小规模集成电路及电子元件加工工艺。电子级氢氟酸的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及性都有着十分重要的影响。因此使用电子级氢氟酸的下游企业通常不会轻易更换供应商，生产企业一般需要花较长时间来获得用户。 电子级氢氟酸是微电子行业的关键性基础化工材料之一，主要用于集成电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)制造中，用于晶圆表面清洗、芯片加工过程中的清洗和蚀刻等工序。在太阳能光伏行业中，用于硅片表面清洗、蚀剂等领域。硅锭到硅片，再到电池片的道工艺程序:清洗制绒环节会用到产品。在液晶显示器行业，用于玻璃基板清洗、氮化硅、二氧化硅蚀剂等。在TFT—LCD、半导体产业中也被广泛使用。还可用作分析试剂、原子能工业化学试剂和制备高纯度的含氟化学品。

　　南海工业级55%氢氟酸生产厂

　　白或无透明的正方晶系结晶，商品呈片状，在-14.8℃-126.1℃下NH4HF2--H20体系中没有水合物,略带酸味,在空气中易潮解,微溶于乙醇,易溶于冷水,在热水中分解,水溶液呈强酸性,在较高温度下能升华,能腐蚀玻璃,氟化氢铵有度,对皮肤有腐蚀性,宜密闭于塑料容器中.主要用于磨砂玻璃生产中玻璃刻蚀剂(与氢氟酸并用)，可用作化学试剂、发酵工业和防腐剂、由氧化铍制金属铍的溶剂及硅钢板的表面处理剂。还用于制造陶瓷、镁合金、锅炉给水系统和蒸汽发生系统的清洗脱垢，以及油田砂石的酸化处理。也用作烷基化异构化催化剂组分。

　　金属溶解液:氢氟酸可以与其他无机酸配合用作金属溶解液，在环境样品的微量元素分析之前进行常规的酸消解程序。固体样品和那些通常积累于汽车上的颗粒物质具有相似的属性或化学成分。对下水道污泥样品的研究显示，可以使用氢氟酸、硝酸、高氯酸和王水配成金属溶解液测定镉、铬、铜、铁、镍、铅和锌的浓度。另一研究显示可以使用硝酸和硫酸混合液，冷蒸气原子吸收光谱法测定白星眼的汞浓度；也可以采用硝酸和氢氟酸混合液，采用电感耦合等离子体质谱法测定汞浓度。将微波消解系统应用于环境样品测定时，在消解过程中使用氢氟酸可以使灰尘样本而迅速的消解。使用硝酸或王水消解灰尘样品，析出的铅和镉超过80％。使用氢氟酸-硝酸混合液，析出的铅和镉超过90％。氢氟酸也可被用于消解含有放射性元素的地质样品。在样品被氢氟酸解析后，氢氟酸被铂元素组洗脱的络合物，而氟络合物在阳离子交换树脂上的分布系数接近零。