详细说明
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产品参数
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品牌:希芮
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公司行业:化工
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服务项目:过氧化物
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公司区域:广州
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用途:污水处理
- 产品优势
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产品特点:
安徽 中成 洗染专用保险粉、中成雕白块(粉),双氧水、氢氟酸、(进口/国产)珠碱、纯碱、聚丙烯酰铵离子,焦亚硫酸钠,亚硫酸钠、聚合氯化铝 磷酸,片碱、磷酸三钠,五水偏硅酸钠各种电镀原料,洗染原料,污水处理原料。
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服务特点:
广东省内可送货上门:省外支持物流发货。
珠海工业级50%氢氟酸公司有哪些
氢氟酸的安全防护措施
处理氢氟酸需穿戴防酸手套(如丁基橡胶)、面罩和耐腐蚀围裙,工作区域应配备紧急淋浴器和眼冲洗装置。储存需使用聚乙烯或聚四氟乙烯容器,避免与玻璃、金属接触。泄漏时需用碳酸钙或石灰中和,严禁直接用水冲洗(可能扩大污染)。实验室使用时需在通风橱内操作,并备好葡萄糖酸钙解毒剂。员工应定期接受安全培训,熟悉应急预案,确保事故发生时能迅速采取中和、冲洗等关键措施。
氢氟酸是氟化氢气体的水溶液,清澈,无、发烟的腐蚀性液体,有剧烈刺激性气味。熔点-83.3℃,沸点19.54,闪点112.2℃,密度0.888g/cm³。易溶于水、乙醇。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强,使得氢氟酸在水中不能电离,所以理论上低浓度的氢氟酸是一种弱酸(按其电离常数实际上属于中强酸)。具有强的腐蚀性,能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤会造成治愈的灼伤。实验室一般用萤石(主要成分为氟化钙)来制取,需要密封在塑料瓶中,并保存于阴凉处。
23、 热氧化利用氧化技术,在晶圆表面形成一层氧化层。24、 NMOS 源和漏形成涂布光刻胶后,利用光刻技术形成NMOS源与漏区域的屏蔽,再利用离子注入技术将砷元素注入源与漏区域,而后将晶圆表面的光刻胶去除。
25、 PMOS 源和漏形成利用光刻技术形成PMOS源及漏区域的屏蔽之后,再利用离子注入技术将硼元素注入源及漏区域,而后将晶圆表面之光刻胶去除。
26、 未掺杂的氧化层化学气相淀积利用等离子体增强化学气相沉积( PECVD )技术沉积一层无掺杂的氧化层,保护器件表面,免于受后续工艺。27、 CMOS 源和漏的活化与扩散利用退火技术,将经离子注入过的漏及源进行电性活化及扩散处理。
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本身是氟化氢气体的水溶液。就好像汽水能挥发出二氧化碳一样。正因为氢键比较强,所以水中的H离子和F离子很容易结合成HF而HF是气体在气体在水中的溶解度有限所以氢氟酸会挥发。二、使用氢氟酸应该注意什么?
的时候要戴手套,耐酸碱的手套,还有就是做好呼吸系统上防护,好是佩戴防毒面具,选择酸性气体滤罐,好选择全面型的防毒面具,挥发的气体对眼睛也会有刺激性,在通风厨里操作,实验好在一个相对密封的体系中进行,后续连接有吸收装置。如因不慎触及到氟化氢,应先用大量水冲洗,然后用5%碳酸钠溶液或1%氨水冲洗伤部,再用20%硫酸镁、6%氧化镁、18%甘油、1.2%盐酸普鲁卡因和水配成的溶液洗涤。
氢氟酸英文名 hydrofluoric acid,分子式HF,分子量 20. 01,为无透明液体 ,相对密度1. 15~1 . 18,沸点 112 . 2 ℃,在空气中发烟 ,有刺激性气味 ,剧毒;能与一般金属、 金属氧化物以及氢氧化物发生反应 ,生成各种盐类;腐蚀性强 ,能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅;易溶于水、醇 ,难溶于其他有机溶剂。高纯氢氟酸为强酸性清洗、腐蚀剂 ,可与硝酸、冰醋酸、 双氧水及氢氧化铵等配置使用