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　　氢氟酸在实验室中的使用

　　实验室中，氢氟酸常用于消解硅酸盐样品或清洗石英器皿，但操作需极度谨慎。建议使用低浓度（如5%以下）溶液以降低风险，并在通风橱中佩戴双重防护手套。盛放容器必须标有醒目警示标签，与其他酸类分开放置。实验后废液需单独收集，用氢氧化钙中和至pH>7后再处置。因危险性高，许多实验室已逐步改用替代试剂（如氟化铵缓冲液），但某些特殊反应仍需氢氟酸参与。

　　金属溶解液:氢氟酸可以与其他无机酸配合用作金属溶解液，在环境样品的微量元素分析之前进行常规的酸消解程序。固体样品和那些通常积累于汽车上的颗粒物质具有相似的属性或化学成分。对下水道污泥样品的研究显示，可以使用氢氟酸、硝酸、高氯酸和王水配成金属溶解液测定镉、铬、铜、铁、镍、铅和锌的浓度。另一研究显示可以使用硝酸和硫酸混合液，冷蒸气原子吸收光谱法测定白星眼的汞浓度；也可以采用硝酸和氢氟酸混合液，采用电感耦合等离子体质谱法测定汞浓度。将微波消解系统应用于环境样品测定时，在消解过程中使用氢氟酸可以使灰尘样本而迅速的消解。使用硝酸或王水消解灰尘样品，析出的铅和镉超过80％。使用氢氟酸-硝酸混合液，析出的铅和镉超过90％。氢氟酸也可被用于消解含有放射性元素的地质样品。在样品被氢氟酸解析后，氢氟酸被铂元素组洗脱的络合物，而氟络合物在阳离子交换树脂上的分布系数接近零。

　　23、 热氧化利用氧化技术，在晶圆表面形成一层氧化层。24、 NMOS 源和漏形成涂布光刻胶后，利用光刻技术形成NMOS源与漏区域的屏蔽，再利用离子注入技术将砷元素注入源与漏区域，而后将晶圆表面的光刻胶去除。

　　25、 PMOS 源和漏形成利用光刻技术形成PMOS源及漏区域的屏蔽之后，再利用离子注入技术将硼元素注入源及漏区域，而后将晶圆表面之光刻胶去除。

　　26、 未掺杂的氧化层化学气相淀积利用等离子体增强化学气相沉积( PECVD )技术沉积一层无掺杂的氧化层，保护器件表面，免于受后续工艺。27、 CMOS 源和漏的活化与扩散利用退火技术，将经离子注入过的漏及源进行电性活化及扩散处理。

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　　“以往在我国氢氟酸年出口量在25万吨级上下，占生产量的20%。但2020年行情不太好，价钱下滑比中国下滑还大，出口不畅无法给中国市场分摊工作压力。”现阶段氢氟酸新生产能力还要提升，中后期市场将遭遇更大冲击。“氢氟酸厂家粗略地估计，2020年将有10万吨级/年氢氟酸设备投建，年末全国性氢氟酸生产能力将超出250万吨级/年。假如中下游要求不可以合理变大，出口沒有大的提升，中后期氢氟酸市场工作压力会越来越大。”氢氟酸厂家

　　:若自身手部本身存在创面，接触氢氟酸后容易发生，导致这种症状，部还会出现红肿、流脓等现象，应听从医生建议使用红霉素软膏、阿莫西林胶囊等物。氢氟酸是强酸还是弱酸‌氢氟酸是弱酸。‌氢氟酸是氟化氢气体的水溶液，清澈、无、发烟的腐蚀性液体，具有强的腐蚀性，能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。‌ 氢氟酸之所以被认为是弱酸，是因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，且水溶液中氟化氢分子间存在氢键，使得氢氟酸在水中不能电离，因此低浓度的氢氟酸是一种弱酸。