详细说明
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产品参数
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品牌:希芮
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公司行业:化工
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服务项目:过氧化物
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公司区域:广州
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用途:污水处理
- 产品优势
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产品特点:
安徽 中成 洗染专用保险粉、中成雕白块(粉),双氧水、氢氟酸、(进口/国产)珠碱、纯碱、聚丙烯酰铵离子,焦亚硫酸钠,亚硫酸钠、聚合氯化铝 磷酸,片碱、磷酸三钠,五水偏硅酸钠各种电镀原料,洗染原料,污水处理原料。
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服务特点:
广东省内可送货上门:省外支持物流发货。
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氢氟酸的安全防护措施
处理氢氟酸需穿戴防酸手套(如丁基橡胶)、面罩和耐腐蚀围裙,工作区域应配备紧急淋浴器和眼冲洗装置。储存需使用聚乙烯或聚四氟乙烯容器,避免与玻璃、金属接触。泄漏时需用碳酸钙或石灰中和,严禁直接用水冲洗(可能扩大污染)。实验室使用时需在通风橱内操作,并备好葡萄糖酸钙解毒剂。员工应定期接受安全培训,熟悉应急预案,确保事故发生时能迅速采取中和、冲洗等关键措施。
储存注意事项: 储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不超过30℃,相对湿度不超过85%。保持容器密封。应与碱类、活性金属粉末、玻璃制品分开存放,切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备和合适的收容材料。监测方法:离子选择性电法;氟试剂-镧盐比法工程控制: 密闭操作,注意通风。尽可能机械化、自动化。提供淋浴和洗眼设备。
呼吸系统防护: 可能接触其烟雾时,佩戴自吸过滤式防毒面具(全面罩)或空气呼吸器。紧急事态抢救或撤离时,建议佩戴氧气呼吸器。
什么是氢氟酸?氢氟酸是氯化氢与氟矿石(含氟化钙97%)反应产生的氟化氢冷却后形成的液体。该液体是清澈、无、易发烟的腐蚀性液体,有强烈的刺激性气味。浓度大于40%的氢氟酸溶液可产生烟雾。 氢氟酸具有强的腐蚀性,能强烈的腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。主要用于铝和铀的提取、玻璃的雕刻、不锈钢表面含氧杂质的清洗。 二、氢氟酸对皮肤组织损伤的机理是什么?
氢氟酸对组织损伤的机理首先是直接腐蚀接触的皮肤,其次是氟离子的渗透,导致深部组织的坏死、组织脱钙、疼痛。1. 氢氟酸烧伤后的疼痛呈迟发性、顽固性的剧烈疼痛,这种疼痛有时麻也无法缓解。一般疼痛发生在伤后1~8小时。 2. 氢氟酸对组织的损伤是进行性的,烧伤面积和深度可以不断进展。是指、趾甲受损时,可向指、趾甲下侵犯,这是因为氢氟酸的腐蚀作用,促进氟化物向深部组织侵犯,指、趾甲没有角化层存在,氢氟酸可以迅速穿过甲床、基质和指、趾骨,侵犯指、趾下。
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前置氧化利用热氧化法生长一层二氧化硅薄膜,目的是为了降低后续生长氮化硅薄膜工艺中的应力(stress),氮化硅具有很强的应力,会影响晶圆表面的结构,因此在这一层氮化硅及硅晶圆之间,生长一层二氧化硅薄膜来减缓氮化硅与硅晶圆间的应力。3、淀积氮化硅利用低压化学气相沉积(LPCVD)的技术,沉积一层氮化硅,用来做为离子注入的mask及后续工艺中,定义P 型井区域。
4、P阱的形成将光刻胶涂在晶圆上之后,利用光刻技术,将所要形成的P型阱区的图形定义出来,即将所要定义的P型阱区的光刻胶去除掉。
参考:Razavi-7章 CMOS工艺技术-519暴力讲解半导体中的“氮化硅”
制造从约1mm厚的p型硅晶片开始。在清洁和抛光工序后,在晶片表面生长一层作为保护层的二氧化硅薄层,见图17.8(a)。接着,制作n阱,光刻工序包括光刻胶涂敷、用n阱掩模版进行紫外线曝光和选择性刻蚀,然后进行n卧离子注入,见网17.8(b),之后,去除无用的光刻校和氧化层.见图17.8(C)。