韶关化工50%氢氟酸厂

　　氢氟酸与其他酸的对比

　　与盐酸、硫酸等强酸相比，氢氟酸的独特之处在于其分子渗透性和与硅的强反应能力。硫酸主要通过脱水性造成烧伤，而氢氟酸则通过氟离子的生化毒性引发深层损伤。硝酸的氧化性更强，但氢氟酸对玻璃的腐蚀性无可比拟。此外，氢氟酸的中和需特异性钙剂，而普通酸烧伤仅需清水冲洗。这些差异使得氢氟酸事故处理更具挑战性，常规酸防护措施可能不足以应对其风险。

　　5% HF(浸泡): 100d涂层无变化

　　HF(汽熏):

　　100d涂层无变化

　　耐10% H2SO4:300d涂层无变化

　　使用范围:涂刷在各种和氢氟酸(HF)接触的各种基材上。

　　氢氟酸中的氢离子对人体组织有脱水和腐蚀作用，而氟是活泼的非金属元素之一，与氢离子结合较牢(电离常数K=3.5×10^-4)。

　　7. Peterson, I.; Craw, P. A. Tetrahedron Lett., 1989, 30, 5799.8. Clarke, P. A.; Grist, M.; Ebden, M.; Wilson, C.; Ble, A. J. Tetrahedron, 2005, 61, 353. 9. Chr. Norrild, J.; Pedersen, C.; Defaye, J. Carbohydr. Res., 1996, 291, 85.

　　韶关化工50%氢氟酸厂

　　8、去除氮化硅将晶圆表面的氮化硅，利用热磷酸湿式蚀刻的方法将其去除掉。9、N阱离子注入利用离子注入技术，将磷打入晶圆中，形成n 型阱。而在P 型阱的表面上由于有一层二氧化硅膜保护，所以磷元素不会植入打入P 型阱之中。

　　10、N阱退火离子注入之后会严重地破坏硅晶圆晶格的完整性。所以掺杂离子注入之后的晶圆经过适当的处理以回复原始的晶格排列。退火就是利用热能来消除晶圆中晶格缺陷和内应力，以恢复晶格的完整性。同时使注入的掺杂原子扩散到硅原子的替代位置，使掺杂元素产生电特性。

　　目前，在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业，其他方面用量较少。中文名:氟硅酸；硅氟酸 英文名:fluosilicic acid；silicofluoric acid 化学式:H2SiF6 相对分子质量:144.11

　　CAS号:16961-83-4

　　产品描述:氟硅酸又称硅氟氢酸，以水溶液形式存在，不稳定，易分解为四氟化硅和氟化氢。分解的四氟化硅气体和氟化氢气体对人和环境都具有一定程度的危害，目前通常将氟硅酸制备成氟硅酸钠、氟化铝等，但其附加值不高。