青海工业氟化氢铵生产厂

　　氢氟酸在实验室中的使用

　　实验室中，氢氟酸常用于消解硅酸盐样品或清洗石英器皿，但操作需极度谨慎。建议使用低浓度（如5%以下）溶液以降低风险，并在通风橱中佩戴双重防护手套。盛放容器必须标有醒目警示标签，与其他酸类分开放置。实验后废液需单独收集，用氢氧化钙中和至pH>7后再处置。因危险性高，许多实验室已逐步改用替代试剂（如氟化铵缓冲液），但某些特殊反应仍需氢氟酸参与。

　　参考:Razavi-7章 CMOS工艺技术-519暴力讲解半导体中的“氮化硅”

　　制造从约1mm厚的p型硅晶片开始。在清洁和抛光工序后,在晶片表面生长一层作为保护层的二氧化硅薄层,见图17.8(a)。接着,制作n阱,光刻工序包括光刻胶涂敷、用n阱掩模版进行紫外线曝光和选择性刻蚀,然后进行n卧离子注入,见网17.8(b),之后,去除无用的光刻校和氧化层.见图17.8（C）。

　　白或无透明的正方晶系结晶，商品呈片状，在-14.8℃-126.1℃下NH4HF2--H20体系中没有水合物,略带酸味,在空气中易潮解,微溶于乙醇,易溶于冷水,在热水中分解,水溶液呈强酸性,在较高温度下能升华,能腐蚀玻璃,氟化氢铵有度,对皮肤有腐蚀性,宜密闭于塑料容器中.主要用于磨砂玻璃生产中玻璃刻蚀剂(与氢氟酸并用)，可用作化学试剂、发酵工业和防腐剂、由氧化铍制金属铍的溶剂及硅钢板的表面处理剂。还用于制造陶瓷、镁合金、锅炉给水系统和蒸汽发生系统的清洗脱垢，以及油田砂石的酸化处理。也用作烷基化异构化催化剂组分。

　　青海工业氟化氢铵生产厂

　　氢氟酸的危险与误区氢氟酸（HF）是一种其强腐蚀的化学物质，广泛应用于工业领域，尤其是在清洁陶瓷、去除水垢及刻蚀半导体材料等方面。然而，很多消费者在使用这类强腐蚀性的化学清洁剂时，并未充分认识到其危险性。钟先生的悲剧就是一个典型的例:他在使用氢氟酸时仅佩戴了普通布手套，导致化学品直接接触皮肤，造成严重的化学灼伤。专家指出，氢氟酸可通过皮肤吸收，侵蚀深层组织，后果不堪设想。清洁过程中的防护措施在进行家庭清洁时，切勿轻视防护，通常应该遵循以下几点建议:使用的防护手套，如橡胶手套或耐酸碱手套，确保不让化学物质直接接触皮肤；穿戴合适的保护眼镜，液体溅入眼中；在通风良好的地方进行清洁作业，以减少有害气体的吸入；如果不确定清洁剂的使用，务必根据说明书进行操作，必要时寻求帮助。

　　［别名］氟氢酸［分子式］HF ［性质］氟化氢气体易溶于水，其水溶液称为氢氟酸。市售商品常为氟化氢气体35%-50%的水溶液，高浓度可达75%,为无澄清的发烟液体。有刺激性气味，易挥发，在空气中发白烟。属中等强度的无机酸，腐蚀性强，能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅。也能与金属、金属氧化物及氢氧化物作用生成各种盐类，但作用不及盐酸那样剧烈。金、铂、铅、石蜡及某些塑料等与它不起作用，故可制作容器。氟化氢气体很易聚合，形成（HF）2（HF）3···等链形分子，在液态时,聚合度增大。需贮存于铅制、蜡制或塑料制的容器中。有剧毒，皮肤触及则溃烂。