详细说明
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产品参数
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品牌:希芮
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公司行业:化工
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服务项目:过氧化物
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公司区域:广州
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用途:污水处理
- 产品优势
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产品特点:
安徽 中成 洗染专用保险粉、中成雕白块(粉),双氧水、氢氟酸、(进口/国产)珠碱、纯碱、聚丙烯酰铵离子,焦亚硫酸钠,亚硫酸钠、聚合氯化铝 磷酸,片碱、磷酸三钠,五水偏硅酸钠各种电镀原料,洗染原料,污水处理原料。
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服务特点:
广东省内可送货上门:省外支持物流发货。
江门工业氢氟酸公司
氢氟酸与环境污染
氢氟酸泄漏对环境的危害极大,其氟离子可污染土壤和水体,抑制微生物活动,破坏生态平衡。酸性废水会腐蚀管道并渗入地下水,长期累积可能造成动植物氟中毒,表现为牙齿斑驳、骨骼畸形。工业排放需严格控制在ppm级,并通过中和沉淀法(如添加石灰生成氟化钙)处理废水。历史上多起氢氟酸事故(如1987年美国德克萨斯州泄漏事件)警示我们需加强储存运输监管,避免大规模生态灾难。
另外,由于氢氟酸的强腐蚀性,采用蒸馏工艺温度较高时腐蚀会更严重,因此所使用的蒸馏设备一般需用铂、金、银等贵金属或聚四氟乙烯等抗腐蚀性能力较强的材料来制造。电子级氢氟酸生产装置设计与工艺流程布置密切相关,垂直流向布置,原料(无水氢氟酸和高纯水)与中间产物可以依靠重力自上而下流动,高纯氢氟酸的制备在中部,产品过滤、灌装及贮存在底层。此布置可减少泵输送,节省能耗,降低生产成本,同时可避免泵对产品的二次污染。
汽车发动机产生的气体中也有氟化氢。这是某些种类橡胶做的皮圈和软管在400℃下反应生成的。由于氢氣酸溶解氧化物的能力,它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氣酸也用来蚀刻玻璃,半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物,在炼油厂中它可以用作异丁烷和丁烷的烷基化反应的催化剂,除去不锈钢表面的含氧杂质的"浸酸"过程中也会用到氢氟酸。氢氟酸也用于多种含氣有机物的合成,比如特氣隆(聚四氣乙烯),还有氣利昂一类的致冷剂。氟化氢主要用来切割半导体基板,半导体产品的制造需要600多道工序,其中十多次工序会需要使用氣化氢。氟化氢在使用中经常与硝酸、乙酸、氨水、双氧水配合使用。
江门工业氢氟酸公司
腐蚀性:氟硅酸能腐蚀锑以及有相当活性的其它金属但它与铜及铁作用分别在铜、铁表面形成保护性不溶膜。氟硅酸水溶液能腐蚀大多数金属尤其是铝故盛放氟硅酸溶液的容器宜用聚乙烯或硬质橡胶制品。主要用途:氟硅酸是制取氟硅酸盐及四氟化硅的原料,也应用于金属电镀、木材防腐、啤酒等。 氟硅酸有剧毒能侵蚀粘膜、眼睛和皮肤。同时能释放出有毒气体 HF 和 SiF4。溶液和气相的毒性与氢氟酸相等。生产磷酸的工人患有的肺尘(埃沉着)病和肺支气管病等慢性病与接触 HF、H2SiF6和 SiF4 有关。有职业与健康国家机构组织建议氟的暴露水平应在2.5mg F/m 3 以下。氟的雾化致死量为140mg F/kg。市场上的氟硅酸是浓度为20%~35%的水溶液。由于它具有腐蚀性能腐蚀多种金属和合金一般用橡胶或塑料容器运输和保存。
11、去除二氧化硅利用湿法刻蚀方法去除晶圆表面的二氧化硅。12、前置氧化利用热氧化法在晶圆上形成一层薄的氧化层,以减轻后续氮化硅沉积工艺所产生的应力。
13、 氮化硅的淀积利用低压化学气相沉积方法(LPCVD)淀积氮化硅薄膜,用来定义出器件隔离区域,使不被氮化硅遮盖的区域,可被氧化而形成组件隔离区。
14、元件隔离区的掩膜形成利用光刻技术,在晶圆上涂布光刻胶,进行光刻胶曝光与显影,接着将氧化缘区域的光刻胶去除,以定义出器件隔离区。