南沙化工50%氢氟酸厂

　　氢氟酸的历史与发现

　　氢氟酸的发现可追溯至17世纪，当时瑞典化学家舍勒首次从萤石（CaF₂）中制得氟化氢。19世纪初，法国科学家盖·吕萨克和泰纳尔提纯了无水氢氟酸，并发现其腐蚀玻璃的特性。工业规模化生产始于20世纪，随着制冷剂和原子能需求增长。历史上，氢氟酸曾用于铀浓缩（曼哈顿计划），也因战争用途蒙上阴影。如今，其应用更偏向民用高科技领域，但安全争议始终存在。

　　氢氟酸是氟化氢气体的水溶液,为无透明至淡黄冒烟液体。有刺激性气味。分子式 HF-H2O。相对密度 1.15～1.18。沸点 112.2℃(按重量百分比计为38.2%)。市售通常浓度:约47% 。是弱酸。氟化氢的水溶液，其溶质的质量分数可达35.35%。无溶液。浓时密度1.14g/cm3，沸点393.15K（120℃）。发烟雾。具弱酸性，但浓时的电离度比稀时大而与一般弱电解质有别。腐蚀性强，对牙、骨损害较严重。对硅的化合物有强腐蚀性。应在密闭的塑料瓶内保存。用HF溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片（与HNO3的混酸）。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能解离。

　　氢氟酸由于其强烈的腐蚀性，在工业生产中具有多种重要应用，包括:金属表面处理:氢氟酸能够溶解金属表面的氧化物和污垢，因此常被用于金属表面的清洗和抛光。蚀刻工艺:氢氟酸具有的蚀刻性能，能够地蚀刻出复杂的图案和结构。在玻璃蚀刻、电子元件制造、集成电路制造等领域，氢氟酸被广泛用于制作各种微细结构和器件。清洗和脱脂:氢氟酸能够溶解油脂和有机物质，因此常被用于金属表面的清洗和脱脂。例如，在不锈钢和铝材的生产过程中，氢氟酸可以去除表面的油污和油脂，为后续的加工和涂装提供良好的基础。化学分析和提取:氢氟酸能够与许多物质发生反应，因此在化学分析和提取过程中具有广泛的应用。例如，氢氟酸可以用于从矿石中提取铀和钍等稀有金属，也可以用于分析金属合金和玻璃等成分。半导体和太阳能电池制造:在半导体和太阳能电池制造过程中，氢氟酸是的化学试剂。它可以用于清洗硅片、去除硅表面的杂质、制备二氧化硅薄膜等。制冷和空调工业:氢氟酸在制冷和空调工业中用于生产制冷剂，如氟利昂等。

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　　UPSS级:适用于0.09～0.2μm和<0.09μmIC工艺技术的制作，是的级别，国内一家生产和大规模应用。UPS级:适用于0.35—0.80um集成电路加工工艺，金属杂质含量低于1.00ug/L，经过0.05um孔径过滤器过滤，控制0.20Ixm粒子，在100级净化环境中灌装达到SEMIC8标准。 UP级:适用于1.00um集成电路及TFT—LCD制造工艺，金属杂质含量低于10mg/kg，经过0.20um孔径过滤器过滤，控制0.50um粒子，在100级净化环境中灌装，达到SEMIC7标准。

　　氢氟酸的介绍氢氟酸（Hydrofluoric Acid），作为氟化氢气体的水溶液，是一种清澈、无、发烟的腐蚀性液体，具有剧烈的刺激性气味。其熔点为-83.3℃，沸点19.54℃，密度约为1.15g/cm³。由于氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，氢氟酸在水中不能电离，因此低浓度时表现为一种弱酸。然而，氢氟酸具有强的腐蚀性，能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。 氢氟酸在工业上有着广泛的应用，如用于金属表面的清洗和腐蚀、玻璃蚀刻、以及半导体工业中硅表面的处理等。然而，由于其高度的腐蚀性和毒性，氢氟酸在处理和输送过程中需要的防护措施。