四川化工氢氟酸收费标准

　　氢氟酸与其他酸的对比

　　与盐酸、硫酸等强酸相比，氢氟酸的独特之处在于其分子渗透性和与硅的强反应能力。硫酸主要通过脱水性造成烧伤，而氢氟酸则通过氟离子的生化毒性引发深层损伤。硝酸的氧化性更强，但氢氟酸对玻璃的腐蚀性无可比拟。此外，氢氟酸的中和需特异性钙剂，而普通酸烧伤仅需清水冲洗。这些差异使得氢氟酸事故处理更具挑战性，常规酸防护措施可能不足以应对其风险。

　　氢氟酸严重烧伤可以引起全身中毒和发生致命的低钙血症。氢氟酸中的氟离子与血中游离的钙离子结合形成氟化钙，血钙浓度迅速降低。三、氢氟酸烧伤后应该如何治疗？ 1.迅速脱去污染的衣服、手套，用大量的流动清水冲洗创面，水疱给予清除，有指、趾甲侵犯的必要时给予拔除指、趾甲。 2.用葡萄糖酸钙或氯化钙湿敷创面或行部注射。

　　3.对有水疱或深部组织坏死的，需行手术清创。

　　EL级:金属杂质含量低于100mg/kg，控制1.00um粒径粒子，达到SEMI C1，C2标准，适合中小规模集成电路及电子元件加工工艺。电子级氢氟酸的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及性都有着十分重要的影响。因此使用电子级氢氟酸的下游企业通常不会轻易更换供应商，生产企业一般需要花较长时间来获得用户。 电子级氢氟酸是微电子行业的关键性基础化工材料之一，主要用于集成电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)制造中，用于晶圆表面清洗、芯片加工过程中的清洗和蚀刻等工序。在太阳能光伏行业中，用于硅片表面清洗、蚀剂等领域。硅锭到硅片，再到电池片的道工艺程序:清洗制绒环节会用到产品。在液晶显示器行业，用于玻璃基板清洗、氮化硅、二氧化硅蚀剂等。在TFT—LCD、半导体产业中也被广泛使用。还可用作分析试剂、原子能工业化学试剂和制备高纯度的含氟化学品。

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　　氟是活泼的非金属，，它的原子半径很小，它的化和物常常有的性质2.氢氟酸中的氟离子的半径很小，甚至小于氧离子，这导致它有很强的渗透性，致密的氧化物也不能阻止它的渗透（这点主要）

　　当氢氟酸腐蚀皮肤的时候，它作为中强酸，开始对皮肤腐蚀，同时氟离子会向皮肤下的肌肉组织渗透，继而腐蚀皮肤下面的肌肉，如果不及时处理，它还会渗透到里边的骨头上，腐蚀骨头。被氢氟酸腐蚀的皮肤很难愈合，同时伴有剧烈的疼痛。其他的强酸，强碱没有这种渗透性.同时氢氟酸和盐酸一样有很强的挥发性，会产生酸雾，这更增强了它的腐蚀性。

　　剧毒。具有强腐蚀性，能烧伤皮肤并有渗透至骨骼的危险。对玻璃等硅酸盐有腐蚀作用，铂、橡胶、聚乙烯、聚四氟乙烯等不受腐蚀。4.对空气和湿气比较敏感。该试剂具有大的毒性和腐蚀性，带上防护面罩和手套后在通风效果好的通风橱中小心操作和使用。 5.稳定性[26]  稳定 6.禁配物[27]  易燃或可燃物 7.避免接触的条件[28]  潮湿空气

　　8.聚合危害[29]  不聚合1.储存注意事项[30] 储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不超过30℃，相对湿度不超过80%。应与易（可）燃物、食用化学品分开存放，切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备。 2.属一级无机酸性腐蚀性物品,遇金属能放出氢气，遇火星易引起燃烧或爆炸，因而不可与金属粉末、氧化剂、碱、有机物等共贮混运。 1.硫酸法:将干燥后的萤石粉和硫酸按配比1:(1.2～1.3)混合，送入回转式反应炉内进行反应，炉内气相温度控制在280℃±10℃。反应后的气体进入粗馏塔，除去大部分硫酸、水分和萤石粉，塔釜温度控制在100～110℃，塔顶温度为35～40℃。粗氟化氢气体再经脱气塔冷凝为液态，塔釜温度控制在20～23℃，塔顶温度为-8℃±1℃，然后进入精馏塔精馏，塔釜温度控制在30～40℃，塔顶温度为19.6℃±0.5℃。精制后的氟化氢用水吸收，即得氢氟酸产品。其