神湾石英砂酸洗氢氟酸生产厂商

　　氢氟酸与环境污染

　　氢氟酸泄漏对环境的危害极大，其氟离子可污染土壤和水体，抑制微生物活动，破坏生态平衡。酸性废水会腐蚀管道并渗入地下水，长期累积可能造成动植物氟中毒，表现为牙齿斑驳、骨骼畸形。工业排放需严格控制在ppm级，并通过中和沉淀法（如添加石灰生成氟化钙）处理废水。历史上多起氢氟酸事故（如1987年美国德克萨斯州泄漏事件）警示我们需加强储存运输监管，避免大规模生态灾难。

　　目前，在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业，其他方面用量较少。中文名:氟硅酸；硅氟酸 英文名:fluosilicic acid；silicofluoric acid 化学式:H2SiF6 相对分子质量:144.11

　　CAS号:16961-83-4

　　产品描述:氟硅酸又称硅氟氢酸，以水溶液形式存在，不稳定，易分解为四氟化硅和氟化氢。分解的四氟化硅气体和氟化氢气体对人和环境都具有一定程度的危害，目前通常将氟硅酸制备成氟硅酸钠、氟化铝等，但其附加值不高。

　　剧毒。具有强腐蚀性，能烧伤皮肤并有渗透至骨骼的危险。对玻璃等硅酸盐有腐蚀作用，铂、橡胶、聚乙烯、聚四氟乙烯等不受腐蚀。4.对空气和湿气比较敏感。该试剂具有大的毒性和腐蚀性，带上防护面罩和手套后在通风效果好的通风橱中小心操作和使用。 5.稳定性[26]  稳定 6.禁配物[27]  易燃或可燃物 7.避免接触的条件[28]  潮湿空气

　　8.聚合危害[29]  不聚合1.储存注意事项[30] 储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不超过30℃，相对湿度不超过80%。应与易（可）燃物、食用化学品分开存放，切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备。 2.属一级无机酸性腐蚀性物品,遇金属能放出氢气，遇火星易引起燃烧或爆炸，因而不可与金属粉末、氧化剂、碱、有机物等共贮混运。 1.硫酸法:将干燥后的萤石粉和硫酸按配比1:(1.2～1.3)混合，送入回转式反应炉内进行反应，炉内气相温度控制在280℃±10℃。反应后的气体进入粗馏塔，除去大部分硫酸、水分和萤石粉，塔釜温度控制在100～110℃，塔顶温度为35～40℃。粗氟化氢气体再经脱气塔冷凝为液态，塔釜温度控制在20～23℃，塔顶温度为-8℃±1℃，然后进入精馏塔精馏，塔釜温度控制在30～40℃，塔顶温度为19.6℃±0.5℃。精制后的氟化氢用水吸收，即得氢氟酸产品。其

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　　氟化氢气体的水溶液。无发烟易流动的液体。有刺激性气味。剧毒，有强烈腐蚀性。市售的氢氟酸含HF约40%，其中氟化氢常以两分子缔合状态（H2F2）存在。为一弱酸，酸离解常数K=3.53×10-4。38.2% (W/WHF)水溶液为二元共沸物，沸点 112.2℃。能腐蚀玻璃和硅酸盐，生成气态四氟化硅。可溶解除金、铂以外的大部分金属，能侵蚀银、铜。与金属盐类、氧化物、氢氧化物作用生成氟化物。用水吸收氟化氢气体而得，应贮于蜡制或塑料制的容器中。

　　UPSS级:适用于0.09～0.2μm和<0.09μmIC工艺技术的制作，是的级别，国内一家生产和大规模应用。UPS级:适用于0.35—0.80um集成电路加工工艺，金属杂质含量低于1.00ug/L，经过0.05um孔径过滤器过滤，控制0.20Ixm粒子，在100级净化环境中灌装达到SEMIC8标准。 UP级:适用于1.00um集成电路及TFT—LCD制造工艺，金属杂质含量低于10mg/kg，经过0.20um孔径过滤器过滤，控制0.50um粒子，在100级净化环境中灌装，达到SEMIC7标准。