中山石英砂酸洗氢氟酸工厂店

　　氢氟酸的历史与发现

　　氢氟酸的发现可追溯至17世纪，当时瑞典化学家舍勒首次从萤石（CaF₂）中制得氟化氢。19世纪初，法国科学家盖·吕萨克和泰纳尔提纯了无水氢氟酸，并发现其腐蚀玻璃的特性。工业规模化生产始于20世纪，随着制冷剂和原子能需求增长。历史上，氢氟酸曾用于铀浓缩（曼哈顿计划），也因战争用途蒙上阴影。如今，其应用更偏向民用高科技领域，但安全争议始终存在。

　　不同浓度的氢氟酸都具有较强的腐蚀性。低浓度的氢氟酸微离解成离子，腐蚀机理同于氯离子，造成点腐蚀，性强于氯离子，离子半径更小，腐蚀危害明显强于氯离子。较浓的溶液中，聚合作用而生成分子，离解为腐蚀性强，造成均匀腐蚀，能破坏不锈钢表面的钝化膜（性强于氧）又能钝化膜的形成（反应形成可溶性产物），对于接触不同浓度氢氟酸的设备容器防腐要求较高。志盛威华进过多年研发和现场经验的总结，多年对不同酸的研究，开发的耐氢氟酸防腐涂料，采用氟改性酚醛树脂，加入石墨烯、纳米石墨鳞片、重晶石、纳米铬粉等功能性填料而成，固化涂层致密性高，防离子渗透性能好。嫁接氟离子改性的酚醛树脂具有较高的饱和度，对氟离子的侵蚀具有一定的排斥性，维持了涂层的稳定性，抵抗住氢氟酸的腐蚀。

　　EL级:金属杂质含量低于100mg/kg，控制1.00um粒径粒子，达到SEMI C1，C2标准，适合中小规模集成电路及电子元件加工工艺。电子级氢氟酸的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及性都有着十分重要的影响。因此使用电子级氢氟酸的下游企业通常不会轻易更换供应商，生产企业一般需要花较长时间来获得用户。 电子级氢氟酸是微电子行业的关键性基础化工材料之一，主要用于集成电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)制造中，用于晶圆表面清洗、芯片加工过程中的清洗和蚀刻等工序。在太阳能光伏行业中，用于硅片表面清洗、蚀剂等领域。硅锭到硅片，再到电池片的道工艺程序:清洗制绒环节会用到产品。在液晶显示器行业，用于玻璃基板清洗、氮化硅、二氧化硅蚀剂等。在TFT—LCD、半导体产业中也被广泛使用。还可用作分析试剂、原子能工业化学试剂和制备高纯度的含氟化学品。

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　　如果上述处理后做防锈处理，请选用“ “云清牌-防锈粉” 做防锈处理（可浸泡、或喷雾使用）；1、本固体氢氟酸略有腐蚀性，溅入眼、口、皮肤衣物上立即用清水冲洗干净。

　　2、本固体氢氟酸于阴凉处密封保存，长期有效。

　　一、氢氟酸为什么容易挥发？

　　HF为氢氟化物，成气态，易挥发，为有毒气体 ，HF为氢氟化物，成气态，易挥发，为有毒气体 ，因为

　　［用途］用于制造氟化钠、氟化铝、六氟化铀、氟碳化合物、冰晶石等无机及有机氟化物。有机合成工业中用作聚合、缩合及烷基化的促进剂。石油化工中用作催化剂。也用于玻璃仪表、器皿及镜子的刻花、刻字，非铁金属及不锈钢酸洗，金属铸件除砂，磨砂灯泡处理。还用来制造杀虫剂、杀菌剂、阻燃剂，以及电镀、陶瓷处理等。［简要制法］生产氢氟酸有采用萤石及磷矿石两种原料路线。而以萤石为原料的硫酸法是工业上普遍采用的方法。将干燥后的萤石粉和硫酸按配比1:(1.2-1.3)混合，经高温分解、粗馏、精馏及水吸收而制得氢氟酸。