南沙工业50%氢氟酸联系电话

　　氢氟酸在实验室中的使用

　　实验室中，氢氟酸常用于消解硅酸盐样品或清洗石英器皿，但操作需极度谨慎。建议使用低浓度（如5%以下）溶液以降低风险，并在通风橱中佩戴双重防护手套。盛放容器必须标有醒目警示标签，与其他酸类分开放置。实验后废液需单独收集，用氢氧化钙中和至pH>7后再处置。因危险性高，许多实验室已逐步改用替代试剂（如氟化铵缓冲液），但某些特殊反应仍需氢氟酸参与。

　　泄漏:迅速撤离泄漏污染区人员至区，并进行隔离，严格限制出入。建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器，穿防酸碱工作服。不要直接接触泄漏物。尽可能切断泄漏源，进入下水道、排洪沟等限制性空间。小量泄露:用砂土、干燥石灰或苏打灰混合。也可用大量水冲洗，洗水稀释后放入废水系统。

　　大量泄露:构筑围堤或挖坑收容；用泵转移至槽车或收集器内，回收或运至废物处理场所处置。

　　若患者即将丧失意识、已经失去意识或痉挛，勿经口喂食东西。2.用冷水彻底漱口。

　　半导体具有许多的物理性质,这与半导体中电子的状态及其运动特点有密切关系。为了研究和利用半导体的这些物理性质,需要明白半导体单晶材料中的电子状态及其运动规律。半导体单晶材料和其它固态晶体一样,是由大量原子周期性重复排列而成,而每个原子又包含原子核和许多电子。如果能够写出半导体中相互作用着的原子核和电子系统的薛定谔方程,并求出其解,便可以了解半导体的许多物理性质。但是,这是一个复杂的多体问题,不可能求出其严格解,只能用近似的处理方法-单电子近似来研究固态晶体中电子的能量状态。**所谓单电子近似,即假设每个电子是在周期性排列且固定不动的原子核势场及其它电子的平均势场中运动。**该势场是具有与晶格同周期的周期性势场:用单电子近似法研究晶体中电子状态的理论称为能带论。有关能带论的内容在固体物理学课程中已经比较完整地介绍过了,这里仅作简要回顾,并介绍几种重要半导体材料的能带结构。

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　　［别名］氟氢酸［分子式］HF ［性质］氟化氢气体易溶于水，其水溶液称为氢氟酸。市售商品常为氟化氢气体35%-50%的水溶液，高浓度可达75%,为无澄清的发烟液体。有刺激性气味，易挥发，在空气中发白烟。属中等强度的无机酸，腐蚀性强，能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅。也能与金属、金属氧化物及氢氧化物作用生成各种盐类，但作用不及盐酸那样剧烈。金、铂、铅、石蜡及某些塑料等与它不起作用，故可制作容器。氟化氢气体很易聚合，形成（HF）2（HF）3···等链形分子，在液态时,聚合度增大。需贮存于铅制、蜡制或塑料制的容器中。有剧毒，皮肤触及则溃烂。

　　氢氟酸是氟化氢气体的水溶液，清澈，无、发烟的腐蚀性液体，有剧烈刺激性气味。熔点-83.3℃，沸点19.54，闪点112.2℃，密度0.888g/cm³。易溶于水、乙醇。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能电离，所以理论上低浓度的氢氟酸是一种弱酸（按其电离常数实际上属于中强酸）。具有强的腐蚀性，能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤会造成治愈的灼伤。实验室一般用萤石（主要成分为氟化钙）来制取，需要密封在塑料瓶中，并保存于阴凉处。