详细说明
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产品参数
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品牌:希芮
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公司行业:化工
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服务项目:过氧化物
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公司区域:广州
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用途:污水处理
- 产品优势
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产品特点:
安徽 中成 洗染专用保险粉、中成雕白块(粉),双氧水、氢氟酸、(进口/国产)珠碱、纯碱、聚丙烯酰铵离子,焦亚硫酸钠,亚硫酸钠、聚合氯化铝 磷酸,片碱、磷酸三钠,五水偏硅酸钠各种电镀原料,洗染原料,污水处理原料。
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服务特点:
广东省内可送货上门:省外支持物流发货。
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氢氟酸的历史与发现
氢氟酸的发现可追溯至17世纪,当时瑞典化学家舍勒首次从萤石(CaF₂)中制得氟化氢。19世纪初,法国科学家盖·吕萨克和泰纳尔提纯了无水氢氟酸,并发现其腐蚀玻璃的特性。工业规模化生产始于20世纪,随着制冷剂和原子能需求增长。历史上,氢氟酸曾用于铀浓缩(曼哈顿计划),也因战争用途蒙上阴影。如今,其应用更偏向民用高科技领域,但安全争议始终存在。
[与防护]氢氟酸属一级无机酸性腐蚀物品,危规编号:91035。用聚乙烯塑料桶或四氟乙烯塑料桶包装。每桶净重20kg或25kg。量少可用塑料瓶盛装,每瓶0.5kg包装,包装上应有“剧“或“腐烛性物品“标志。不可与氧化剂,有机物、易燃物、碱、金属粉等共贮混运。失火时可用黄砂、二氧化碳灭火器扑教,禁用柱状水扑救。氢氟酸腐蚀性强,蒸气毒,高容许浓度为1mg/m3。皮肤误触时、应立即用大量清水冲洗,或立即用3%碱液,10%碳酸铵溶液冲洗。严重时应送医院治疗。
参考:Razavi-7章 CMOS工艺技术-519暴力讲解半导体中的“氮化硅”
制造从约1mm厚的p型硅晶片开始。在清洁和抛光工序后,在晶片表面生长一层作为保护层的二氧化硅薄层,见图17.8(a)。接着,制作n阱,光刻工序包括光刻胶涂敷、用n阱掩模版进行紫外线曝光和选择性刻蚀,然后进行n卧离子注入,见网17.8(b),之后,去除无用的光刻校和氧化层.见图17.8(C)。
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氢氟酸的介绍氢氟酸(Hydrofluoric Acid),作为氟化氢气体的水溶液,是一种清澈、无、发烟的腐蚀性液体,具有剧烈的刺激性气味。其熔点为-83.3℃,沸点19.54℃,密度约为1.15g/cm³。由于氢原子和氟原子间结合的能力相对较强,氢氟酸在水中不能电离,因此低浓度时表现为一种弱酸。然而,氢氟酸具有强的腐蚀性,能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。 氢氟酸在工业上有着广泛的应用,如用于金属表面的清洗和腐蚀、玻璃蚀刻、以及半导体工业中硅表面的处理等。然而,由于其高度的腐蚀性和毒性,氢氟酸在处理和输送过程中需要的防护措施。
六、如何减少或消除氢氟酸酸雾产生?置于干燥的环境中,酸雾的产生式因为空气中有水,所以你才可以看到酸雾
七、废氢氟酸怎么处理?
并不是的酸、碱溶液采用中和法进行处理的。如氢氟酸排放液的后处理,它不仅考虑排放液的pH值达到标准,还考虑F-的浓度不能大于国家规定的排放标准。因此,对于氢氟酸废液的处理只能采用石灰中和法,既提高排放液的pH值到6~9,还降低游离F-离子的浓度到10毫克/升以下,方可排放。石灰用量一般不低于纯氢氟酸量的2倍。