详细说明
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产品参数
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品牌:希芮
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公司行业:化工
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服务项目:过氧化物
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公司区域:广州
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用途:污水处理
- 产品优势
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产品特点:
安徽 中成 洗染专用保险粉、中成雕白块(粉),双氧水、氢氟酸、(进口/国产)珠碱、纯碱、聚丙烯酰铵离子,焦亚硫酸钠,亚硫酸钠、聚合氯化铝 磷酸,片碱、磷酸三钠,五水偏硅酸钠各种电镀原料,洗染原料,污水处理原料。
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服务特点:
广东省内可送货上门:省外支持物流发货。
南海工业55%氢氟酸价格行情
氢氟酸的化学特性
氢氟酸(HF)是一种无色透明的强酸,由氟化氢气体溶于水制成,具有极强的腐蚀性和毒性。与其他强酸不同,氢氟酸的酸性并非最强,但其独特的氟离子(F⁻)使其能够溶解许多其他酸无法腐蚀的物质,如玻璃、陶瓷和某些金属氧化物。这是因为氟离子能与二氧化硅(SiO₂)反应生成六氟硅酸(H₂SiF₆),从而破坏硅酸盐材料的结构。氢氟酸的弱解离性(部分电离)使其在低浓度下仍具有高渗透性,能够深入组织,造成严重伤害。
参考:Razavi-7章 CMOS工艺技术-519暴力讲解半导体中的“氮化硅”
制造从约1mm厚的p型硅晶片开始。在清洁和抛光工序后,在晶片表面生长一层作为保护层的二氧化硅薄层,见图17.8(a)。接着,制作n阱,光刻工序包括光刻胶涂敷、用n阱掩模版进行紫外线曝光和选择性刻蚀,然后进行n卧离子注入,见网17.8(b),之后,去除无用的光刻校和氧化层.见图17.8(C)。
39、氮化硅的淀积
利用PECVD 沉积出氮化硅膜,形成保护层。
40、PAD的形成
利用光刻技术在晶圆表层制作出金属焊盘(Pa)的屏蔽图形。利用活性离子蚀刻技术蚀刻出焊盘区域,以做为后续集成电路封装工艺时连接焊线的接触区。41、 将元件予以退火处理此一步骤的目的是让器件有佳化的金属电性接触与性,至此一个CMOS晶体管完成。
南海工业55%氢氟酸价格行情
氢氟酸的危害::氢氟酸是一种常见的化学品,对人体和环境具有严重的毒性。如果长期接触该物质可能会引起呼吸道刺激、皮肤干燥等症状。 :氢氟酸会导致细胞素沉淀等问题,如基因突变、遗传问题以及免疫系统失调等。在处理这些反应之前需要采取适当的方法将它清除掉并进行彻底的废液处理或排放。 :氢氟酸可能与其他元素发生辐射作用而引发核事故,因此需要注意使用,以避免对其造成潜在危险。同时,对于有毒物质和其他危化品也应严格控制其浓度,尽量减少它的释放。氢氟酸危害到底有多大?
化学性质:氟化氢对热稳定,加热到1000℃仅稍有分解。还原性在卤化氢中小。其分子由于形成氢键而有缔合现象,室温下氟化氢气体是(HF)2和(HF)3的混合物。其水溶液显弱酸性。许多金属氟化物可与氟化氢形成稳定的二氟氢盐如NaHF2,KHF2等。干燥的氟化氢对多数金属或金属氧化物不起反应,可是在与金属氧化物的反应中由于产生微量的水使反应自动加速,称自催化反应。和某些非金属氧化物也有同样的反应。