高埗石英砂酸洗氢氟酸厂家

　　氢氟酸的化学特性

　　氢氟酸（HF）是一种无色透明的强酸，由氟化氢气体溶于水制成，具有极强的腐蚀性和毒性。与其他强酸不同，氢氟酸的酸性并非最强，但其独特的氟离子（F⁻）使其能够溶解许多其他酸无法腐蚀的物质，如玻璃、陶瓷和某些金属氧化物。这是因为氟离子能与二氧化硅（SiO₂）反应生成六氟硅酸（H₂SiF₆），从而破坏硅酸盐材料的结构。氢氟酸的弱解离性（部分电离）使其在低浓度下仍具有高渗透性，能够深入组织，造成严重伤害。

　　CAS号:7664-39-3MDL号:MFCD00011346 EINECS号:231-634-8 RTECS号:MW7875000 BRN号:暂无

　　PubChem号:24854662

　　1.性状:无气体，有刺激性气味。[11]

　　2.熔点（℃）:-83.3[12]

　　3.沸点（℃）:19.4[13]

　　内衬聚乙烯薄膜袋的编织袋包装，净重25kg、本固体氢氟酸为粉末制剂的固体酸类，可以替代氢氟酸的常规酸洗工艺，主要用于清除各种钢铁、不锈钢、铜、铝等金属零件及其设备表面的锈、氧化皮、水垢、灰垢等污物，是钢铁热扎、冷扎过程中生成的高温难清除氧化皮，清洗效果可以跟添加氢氟酸的酸洗工艺相媲美，使产品表面清洁干净；本固体氢氟酸清洗过程中没有烟雾产生，大大改善生产环境；对金属的几乎没有腐蚀，对操作人员、设备、环境。

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　　11、去除二氧化硅利用湿法刻蚀方法去除晶圆表面的二氧化硅。12、前置氧化利用热氧化法在晶圆上形成一层薄的氧化层，以减轻后续氮化硅沉积工艺所产生的应力。

　　13、 氮化硅的淀积利用低压化学气相沉积方法（LPCVD）淀积氮化硅薄膜，用来定义出器件隔离区域，使不被氮化硅遮盖的区域，可被氧化而形成组件隔离区。

　　14、元件隔离区的掩膜形成利用光刻技术，在晶圆上涂布光刻胶，进行光刻胶曝光与显影，接着将氧化缘区域的光刻胶去除，以定义出器件隔离区。

　　对泄漏物处理戴好防毒面具、防护眼睛、手套和全身防护服。将污染地面洒上苏打石灰，用水冲洗，经稀释的污水放入废水系统。常用作蚀刻玻璃及陶器的腐蚀剂，作为高辛烷汽油和有机化学反应的催化剂，某些金属如铍、铀等的冶炼，清洗铸件，电子制品的硅洗涤剂，用于染料化工、制造氟塑料、氟橡胶、氟化铝、六氟化铀、特种金属。在洗涤剂中代替草酸也可用于搪瓷、镀锌铁、分解纤维素、擦亮结晶玻璃。分析上用作测定二氧化硅试剂。