详细说明
-
产品参数
-
品牌:希芮
-
公司行业:化工
-
服务项目:过氧化物
-
公司区域:广州
-
用途:污水处理
- 产品优势
-
产品特点:
安徽 中成 洗染专用保险粉、中成雕白块(粉),双氧水、氢氟酸、(进口/国产)珠碱、纯碱、聚丙烯酰铵离子,焦亚硫酸钠,亚硫酸钠、聚合氯化铝 磷酸,片碱、磷酸三钠,五水偏硅酸钠各种电镀原料,洗染原料,污水处理原料。
-
服务特点:
广东省内可送货上门:省外支持物流发货。
麻涌工业级50%氢氟酸现货供应
氢氟酸的历史与发现
氢氟酸的发现可追溯至17世纪,当时瑞典化学家舍勒首次从萤石(CaF₂)中制得氟化氢。19世纪初,法国科学家盖·吕萨克和泰纳尔提纯了无水氢氟酸,并发现其腐蚀玻璃的特性。工业规模化生产始于20世纪,随着制冷剂和原子能需求增长。历史上,氢氟酸曾用于铀浓缩(曼哈顿计划),也因战争用途蒙上阴影。如今,其应用更偏向民用高科技领域,但安全争议始终存在。
8、去除氮化硅将晶圆表面的氮化硅,利用热磷酸湿式蚀刻的方法将其去除掉。9、N阱离子注入利用离子注入技术,将磷打入晶圆中,形成n 型阱。而在P 型阱的表面上由于有一层二氧化硅膜保护,所以磷元素不会植入打入P 型阱之中。
10、N阱退火离子注入之后会严重地破坏硅晶圆晶格的完整性。所以掺杂离子注入之后的晶圆经过适当的处理以回复原始的晶格排列。退火就是利用热能来消除晶圆中晶格缺陷和内应力,以恢复晶格的完整性。同时使注入的掺杂原子扩散到硅原子的替代位置,使掺杂元素产生电特性。
参考:Razavi-7章 CMOS工艺技术-519暴力讲解半导体中的“氮化硅”
制造从约1mm厚的p型硅晶片开始。在清洁和抛光工序后,在晶片表面生长一层作为保护层的二氧化硅薄层,见图17.8(a)。接着,制作n阱,光刻工序包括光刻胶涂敷、用n阱掩模版进行紫外线曝光和选择性刻蚀,然后进行n卧离子注入,见网17.8(b),之后,去除无用的光刻校和氧化层.见图17.8(C)。
麻涌工业级50%氢氟酸现货供应
氢氟酸防腐可选用北京志盛威华化工有限公司生产的zs-1033耐氢氟酸防腐涂料。ZS-1033耐氢氟酸(HF)防腐涂料选用改性酚醛树脂、重晶石、纳米铬粉、防介质固体填料等特种材料精加工而成,涂层致密稳定,耐强酸,是耐氢氟酸(HF)腐蚀效果好。ZS-1033涂料技术参数:≤150℃ ≥0.5Mpa ≥5Mpa
1.8g/ cm3
age;24h 50%HF(浸泡): 300d涂层无变化
密封保存在阴凉的地方。二氧化硅的测定冶金金相分析硅化合物分析。制造氟化物。铜清洁剂。玻璃蚀刻 泄漏:将人员从泄漏污染区域疏散到区域,隔离并严格限制进入。建议应急人员佩戴自给式正压呼吸器,穿防酸碱工作服。不要直接接触泄漏。尽量切断泄漏源,其进入下水道和排水沟等受限空间。 少量泄漏:与沙子、干石灰或纯碱混合。也可以用大量的水冲洗,稀释后放入废水系统。
大量漏水:筑堤或挖坑容纳;通过泵转移至槽车或收集器,回收或运输至废物处置场进行处置。可燃性:不可燃。 灭火剂:雾状水和泡沫。