湖北化工氢氟酸厂家价格

氢氟酸的安全防护措施
处理氢氟酸需穿戴防酸手套（如丁基橡胶）、面罩和耐腐蚀围裙，工作区域应配备紧急淋浴器和眼冲洗装置。储存需使用聚乙烯或聚四氟乙烯容器，避免与玻璃、金属接触。泄漏时需用碳酸钙或石灰中和，严禁直接用水冲洗（可能扩大污染）。实验室使用时需在通风橱内操作，并备好葡萄糖酸钙解毒剂。员工应定期接受安全培训，熟悉应急预案，确保事故发生时能迅速采取中和、冲洗等关键措施。

［用途］用于制造氟化钠、氟化铝、六氟化铀、氟碳化合物、冰晶石等无机及有机氟化物。有机合成工业中用作聚合、缩合及烷基化的促进剂。石油化工中用作催化剂。也用于玻璃仪表、器皿及镜子的刻花、刻字，非铁金属及不锈钢酸洗，金属铸件除砂，磨砂灯泡处理。还用来制造杀虫剂、杀菌剂、阻燃剂，以及电镀、陶瓷处理等。　　［简要制法］生产氢氟酸有采用萤石及磷矿石两种原料路线。而以萤石为原料的硫酸法是工业上普遍采用的方法。将干燥后的萤石粉和硫酸按配比1：(1.2-1.3)混合，经高温分解、粗馏、精馏及水吸收而制得氢氟酸。

工业领域：氟化氢可以制备其他具有工业价值的无机氟化合物，包括冰晶石，六氟铝酸钠，氟化铝。无机氟化合物包括氟化钠和六氟化铀也可以用于生产氢氟酸。其他用途包括玻璃蚀刻或加工（石英提纯），除莠剂，除去金属表面氧化物和稀有金属提纯（采矿和钻井作业），半导体和电子行业，荧光灯泡和清洗液。在工业领域，氢氟酸的主要用途是去除金属氧化物，其他用途包括家庭除锈和除污渍以及汽车清洗。汽车清洗是应用化学产品集中的领域。在日常汽车清洗中，一般仍继续采用氢氟酸，因为氢氟酸具有相对低廉的成本，尤其是大量购买时，成本更低（洗车操作的标准程序是将10％～12％氢氟酸溶液和其他成分加入到55加仑水中进行稀释）。平均而言，采用氢氟酸清洗剂成本比采用其他清洁剂便宜5美元，或者以清洗剂的体积计则浓度为8%的氢氟酸溶液比其他清洁剂每加仑便宜3美元至5美元。生产商建议氢氟酸与水的稀释比例为1∶30，但是这个比例通常根据温度、水质和需要的配方强度而改变。研究表明氢氟酸可以溶解铜和钨，同时具有选择性的钛蚀刻能力。氢氟酸和硅前驱体复配可以保护二氧化硅。氢氟酸清洗液中若存在过氧化氢会导致铜的溶解率受到抑制。这种现象是由于界面氧化铜形成造成的，氧化铜在氢氟酸中的溶解速度较慢。反应动力学研究确定氢氟酸和氧气浓度符合一阶动力学。氢氟酸可以选择性剥离钛膜，移除等离子体刻蚀聚合物或残留物，同时抑制一些物质的蚀刻速率，如钨、铜、二氧化硅、碳化硅、Si3N2和掺杂二氧化硅的碳。由于氢氟酸具有溶解铁氧化物和硅基污染物的能力，可以将其用于产生高压蒸汽的预调试锅炉。氢氟酸可以溶解一些氧化物如五氧化二钽和三氧化二钽，也应用于溶解粉末状岩石样品。类似用途如氢氟酸被用来从硅酸盐岩中提取有机化石。含化石岩可直接浸入到酸中，或应用硝酸纤维素膜（溶于乙酸戊酯），硝酸纤维素膜依附于有机成分，并能溶解岩石。稀氢氟酸（1～3％w/w）与有机酸或盐酸组合应用于石油工业，刺激岩层增产石油和天然气。

EL级：金属杂质含量低于100mg/kg，控制1.00um粒径粒子，达到SEMI C1，C2标准，适合中小规模集成电路及电子元件加工工艺。　　电子级氢氟酸的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及性都有着十分重要的影响。因此使用电子级氢氟酸的下游企业通常不会轻易更换供应商，生产企业一般需要花较长时间来获得用户。 　　电子级氢氟酸是微电子行业的关键性基础化工材料之一，主要用于集成电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)制造中，用于晶圆表面清洗、芯片加工过程中的清洗和蚀刻等工序。在太阳能光伏行业中，用于硅片表面清洗、蚀剂等领域。硅锭到硅片，再到电池片的道工艺程序：清洗制绒环节会用到产品。在液晶显示器行业，用于玻璃基板清洗、氮化硅、二氧化硅蚀剂等。在TFT—LCD、半导体产业中也被广泛使用。还可用作分析试剂、原子能工业化学试剂和制备高纯度的含氟化学品。

白或无透明的正方晶系结晶，商品呈片状，在-14.8℃-126.1℃下NH4HF2--H20体系中没有水合物,略带酸味,在空气中易潮解,微溶于乙醇,易溶于冷水,在热水中分解,水溶液呈强酸性,在较高温度下能升华,能腐蚀玻璃,氢氟酸有度,对皮肤有腐蚀性,宜密闭于塑料容器中.　　主要用于磨砂玻璃生产中玻璃刻蚀剂(与氢氟酸并用)，可用作化学试剂、发酵工业和防腐剂、由氧化铍制金属铍的溶剂及硅钢板的表面处理剂。还用于制造陶瓷、镁合金、锅炉给水系统和蒸汽发生系统的清洗脱垢，以及油田砂石的酸化处理。也用作烷基化异构化催化剂组分。