珠海工业氢氟酸用途

氢氟酸的储存与运输规范
氢氟酸储存需避光、低温，置于通风良好的防泄漏托盘内，远离活泼金属（如钠）和碱性物质。运输时须符合危险化学品法规，使用耐压聚乙烯桶并标注“腐蚀性”和“有毒”标志。车辆应配备防漏应急包，驾驶员需持有危险品运输资质。国际运输还需遵守《联合国关于危险货物运输建议书》，确保包装通过密封性和抗冲击测试。任何运输途中泄漏都需立即隔离现场，由专业人员处理。

肌肤敏感：氢氟酸属于一种具有强烈腐蚀性的化学物质，有些人的肌肤较为敏感，接触该类物质后会出现此类现象，建议用大量清水对手部进行冲洗，至少持续20分钟。　　2、软组织受损：氢氟酸搞到手上后，容易使得部软组织受损，进而会引起部很痛，此时需要使用冰袋或冷毛巾对手部进行冰敷，有助于收缩血管，减少部血液循环，从而减轻疼痛和肿胀。冰敷时间不宜过长，每次约15-20分钟，以免对皮肤造成。存在创面：该部位接触上述物质后，皮肤受到明显腐蚀，容易使得部形成创面，进而会导致明显疼痛、出血等现象，应使用碘伏或双氧水等剂对患处进行处理，以杀灭可能存在的细菌，预防。　　4、过敏：部分人群可能会对此类物质过敏，接触这类物质后会引起过敏现象，引起上述情况，有时还会伴随皮肤瘙痒、红疹等现象，应听从医生建议使用炉甘石洗剂、氯雷他定片等物。

参考：Razavi-7章 CMOS工艺技术-519　　暴力讲解半导体中的“氮化硅” 　　制造从约1mm厚的p型硅晶片开始。在清洁和抛光工序后,在晶片表面生长一层作为保护层的二氧化硅薄层,见图17.8(a)。接着,制作n阱,光刻工序包括光刻胶涂敷、用n阱掩模版进行紫外线曝光和选择性刻蚀,然后进行n卧离子注入,见网17.8(b),之后,去除无用的光刻校和氧化层.见图17.8（C）。

氢氟酸既然是弱酸，为什么会有那么强烈的腐蚀性呢？　　酸的腐蚀性并不一定体现在酸性上~HF的腐蚀是由于F-能与SIO2反应、以及F-与别的金属络合的性。 　　物质的酸性与物质的结构有关，与腐蚀性并不一样。腐蚀性可以表现在对于很多不同物质的腐蚀，可以是由于酸性而表现出来的腐蚀，当然也可以是由于物质别的性质（如存在某些的离子等等）而表现出来的腐蚀。
　　氢氟酸腐蚀性的原因：

应急处理：小量泄漏：用砂土、干燥石灰或苏打灰混合。也可以用大量水冲洗，洗水稀释后放入废水系统。 　　大量泄漏：构筑围堤或挖坑收容。用泵转移至槽车或收集器内，回收或运至废物处理场所处置。
　　操作注意事项： 密闭操作，注意通风。操作尽可能机械化、自动化。操作人员经过专门培训，严格遵守操作规程。建议操作人员佩戴自吸过滤式防毒面具（全面罩），穿橡胶耐酸碱服，戴橡胶耐酸碱手套。蒸气泄漏到工作场所空气中。避免与碱类、活性金属粉末、玻璃制品接触。搬运时要轻装轻卸，包装及容器损坏。配备泄漏应急处理设备。倒空的容器可能残留有害物。