清远工业级氢氟酸厂家价格

　　氢氟酸在实验室中的使用

　　实验室中，氢氟酸常用于消解硅酸盐样品或清洗石英器皿，但操作需极度谨慎。建议使用低浓度（如5%以下）溶液以降低风险，并在通风橱中佩戴双重防护手套。盛放容器必须标有醒目警示标签，与其他酸类分开放置。实验后废液需单独收集，用氢氧化钙中和至pH>7后再处置。因危险性高，许多实验室已逐步改用替代试剂（如氟化铵缓冲液），但某些特殊反应仍需氢氟酸参与。

　　氟化氢 (HF) 在有机合成化学中曾经有过广泛的用途。可能是由于该试剂具有大的毒性和腐蚀性以及较低沸点的原因，许多合成功能逐渐被其它新发展起来的试剂所代替。例如:HF曾经被认为是优秀的Friedel- Crafts反应催化剂和氟化试剂，常常同时兼作试剂和溶剂。不仅价格廉价，后处理也为方便。但是，现在很少看到有关HF催化Friedel-Crafts反应的报道，氟化试剂的用途也表现在较窄的范围内。然而，无水HF和各种浓度的氢氟酸还是有它的应用。

　　目前，在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业，其他方面用量较少。中文名:氟硅酸；硅氟酸 英文名:fluosilicic acid；silicofluoric acid 化学式:H2SiF6 相对分子质量:144.11

　　CAS号:16961-83-4

　　产品描述:氟硅酸又称硅氟氢酸，以水溶液形式存在，不稳定，易分解为四氟化硅和氟化氢。分解的四氟化硅气体和氟化氢气体对人和环境都具有一定程度的危害，目前通常将氟硅酸制备成氟硅酸钠、氟化铝等，但其附加值不高。

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　　19、 电氧化层的形成此步骤为制做CMOS的关键工艺，利用热氧化法在晶圆上形成高品质的二氧化硅，做为电氧化层。20、 电多晶硅的淀积利用低压化学气相沉积（LPCVD）技术在晶圆表面沉积多晶硅，以做为连接导线的电。

　　21、 电掩膜的形成涂布光刻胶在晶圆上，再利用光刻技术将电的区域定义出来。

　　22、 活性离子刻蚀利用活性离子刻蚀技术刻蚀出多晶硅电结构，再将表面的光刻胶去除。

　　10. Norrild, J. C.; Pedersen, C.; Soetofte, I. Carbohydr. Res., 1997, 297, 261.氢氟酸又称氟化氢酸，是氟化氢的水溶液，分子式为HF。无有毒、有强的腐蚀性和刺激性，市售的氢氟酸一般含氟化氢 40%，易挥发，置于空气中即冒白烟。它的酸性在氢卤酸中是弱的，但腐蚀性很强，能腐蚀玻璃和许多金属。故不能用玻璃作容器。可用以在玻璃上刻画花纹。工业用氢氟酸可由氟石（CaF2）和浓硫酸反应制得。是制造氟酸盐的主要原料。本品有剧毒、在空气中高容许浓度为1mg/m3，对金、铂、铅、石蜡及某些塑料不起腐蚀作用。无论是液态或气态刺激眼、皮肤及呼吸道，与皮肤接触立即引起烧伤并剧痛。液体与眼睛接触立即造成失明。应存放在通风阴凉处，避免阳光直射，远离火种热源，切忌与H发孔剂、氰化物、金属粉末、碱等接触，以防发生意外。装卸时要轻拿轻放，渗漏。渗漏时地面上撒上苏打石灰，用水冲洗，消防方法可用干粉，二氧化碳、雾状水，不宜用加压水，以防冲洗时溅出。操作人员应戴防毒面具与手套，切勿触及皮肤，当误触皮肤发生腐烂，则立即用清水冲洗伤口20分钟。再作医治。也可在灼伤处涂敷氧化镁甘油软膏、或擦稀氨水，并就医诊治。