详细说明
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产品参数
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品牌:希芮
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公司行业:化工
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服务项目:过氧化物
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公司区域:广州
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用途:污水处理
- 产品优势
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产品特点:
安徽 中成 洗染专用保险粉、中成雕白块(粉),双氧水、氢氟酸、(进口/国产)珠碱、纯碱、聚丙烯酰铵离子,焦亚硫酸钠,亚硫酸钠、聚合氯化铝 磷酸,片碱、磷酸三钠,五水偏硅酸钠各种电镀原料,洗染原料,污水处理原料。
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服务特点:
广东省内可送货上门:省外支持物流发货。
高明化工50%氢氟酸厂家现货
氢氟酸的历史与发现
氢氟酸的发现可追溯至17世纪,当时瑞典化学家舍勒首次从萤石(CaF₂)中制得氟化氢。19世纪初,法国科学家盖·吕萨克和泰纳尔提纯了无水氢氟酸,并发现其腐蚀玻璃的特性。工业规模化生产始于20世纪,随着制冷剂和原子能需求增长。历史上,氢氟酸曾用于铀浓缩(曼哈顿计划),也因战争用途蒙上阴影。如今,其应用更偏向民用高科技领域,但安全争议始终存在。
去除氮化硅将晶圆表面的氮化硅,利用干法刻蚀的方法将其去除掉。6、P阱离子注入利用离子注入的技术,将硼打入晶圆中,形成P 型阱。接着利用无机溶液,如硫酸或干式臭氧(O3)烧除法将光刻胶去除。
7、P 阱退火及氧化层的形成将晶圆放入炉管中,做高温的处理,以达到硅晶圆退火的目的,并且顺便形成一层n型阱的离子注入mask 层,以阻止下一步骤中﹝n型阱的离子注入﹞,n型掺杂离子被打入P型井内。
19、 电氧化层的形成此步骤为制做CMOS的关键工艺,利用热氧化法在晶圆上形成高品质的二氧化硅,做为电氧化层。20、 电多晶硅的淀积利用低压化学气相沉积(LPCVD)技术在晶圆表面沉积多晶硅,以做为连接导线的电。
21、 电掩膜的形成涂布光刻胶在晶圆上,再利用光刻技术将电的区域定义出来。
22、 活性离子刻蚀利用活性离子刻蚀技术刻蚀出多晶硅电结构,再将表面的光刻胶去除。
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眼睛接触: 立即提起眼睑,用大量流动清水或生理盐水彻底冲洗至少15分钟。就医。
吸入: 迅速脱离现场至空气新鲜处。保持呼吸道通畅。呼吸困难时给输氧,不可进行人工呼吸,可能导致进行人工呼吸者本人吸入氟化氢气体。给予2-4%碳酸氢钠溶液雾化吸入。就医。
食入: 用水漱口,给饮牛奶或蛋清。就医。危险特性: 本品不燃,但能与大多数金属反应,生成氢气而引起爆炸。遇H发泡剂立即燃烧。腐蚀性强。
Veleiro, A. S.; Taich, P. J.; Alvarez, L. D.; Di C.; Pablo H.; Burton, G. Tetrahedron Lett., 2005, 46, 4235.5. Strand, D.; Rein, T. Org. Lett., 2005, 7, 199. 6. Greene, A. E.; Coelho, F.; Depres, J. P.; Brocksom, T. J. J. Org. Chem., 1985, 50, 1973.