东城工业级55%氢氟酸销售批发

　　氢氟酸的历史与发现

　　氢氟酸的发现可追溯至17世纪，当时瑞典化学家舍勒首次从萤石（CaF₂）中制得氟化氢。19世纪初，法国科学家盖·吕萨克和泰纳尔提纯了无水氢氟酸，并发现其腐蚀玻璃的特性。工业规模化生产始于20世纪，随着制冷剂和原子能需求增长。历史上，氢氟酸曾用于铀浓缩（曼哈顿计划），也因战争用途蒙上阴影。如今，其应用更偏向民用高科技领域，但安全争议始终存在。

　　所以，对于这件事，上面的那些防护啊，急救啊，基本都没啥用，来不及！

　　杜此类事情的唯一办法就是把不按照国家危险化学品管理条例和危险废物处理规定的人依法严办！

　　本来危险化学品废物就不能走生活垃圾处理渠道！

　　何况氟化氢还是剧毒化学品。现代CMOS工艺包括200多道工序,但是,为了达到了解的目的,我们可以将其看成下列操作的组合:

　　(1)生产适当类型衬底的晶片制造工艺;

　　半导体具有许多的物理性质,这与半导体中电子的状态及其运动特点有密切关系。为了研究和利用半导体的这些物理性质,需要明白半导体单晶材料中的电子状态及其运动规律。半导体单晶材料和其它固态晶体一样,是由大量原子周期性重复排列而成,而每个原子又包含原子核和许多电子。如果能够写出半导体中相互作用着的原子核和电子系统的薛定谔方程,并求出其解,便可以了解半导体的许多物理性质。但是,这是一个复杂的多体问题,不可能求出其严格解,只能用近似的处理方法-单电子近似来研究固态晶体中电子的能量状态。**所谓单电子近似,即假设每个电子是在周期性排列且固定不动的原子核势场及其它电子的平均势场中运动。**该势场是具有与晶格同周期的周期性势场:用单电子近似法研究晶体中电子状态的理论称为能带论。有关能带论的内容在固体物理学课程中已经比较完整地介绍过了,这里仅作简要回顾,并介绍几种重要半导体材料的能带结构。

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　　美国能源部橡树岭国家实验室的相关专题里面提到一个例子:1994年，澳洲一个倒霉哥们儿把100毫升70%氢氟酸洒在了右腿裤子上。他立刻拉出消防水龙狂冲沾染部位，还跳进了游泳池。很快，他右腿截肢了。两星期后，他还是死了……那么，氢氟酸到底有多恐怖，滴到身体上会怎么样？ 是隐蔽，渗透速度快。氢氟酸只有在30%浓度以上在接触时才会有明显的痛感，低浓度（低至2%）下没有刺激，外观也很难与水分辨。即使在低浓度下，氢氟酸也会以快的速度向组织内渗透（远快于其他矿物质酸）。

　　参考:Razavi-7章 CMOS工艺技术-519暴力讲解半导体中的“氮化硅”

　　制造从约1mm厚的p型硅晶片开始。在清洁和抛光工序后,在晶片表面生长一层作为保护层的二氧化硅薄层,见图17.8(a)。接着,制作n阱,光刻工序包括光刻胶涂敷、用n阱掩模版进行紫外线曝光和选择性刻蚀,然后进行n卧离子注入,见网17.8(b),之后,去除无用的光刻校和氧化层.见图17.8（C）。