萝岗工业级50%氢氟酸用途

　　氢氟酸与环境污染

　　氢氟酸泄漏对环境的危害极大，其氟离子可污染土壤和水体，抑制微生物活动，破坏生态平衡。酸性废水会腐蚀管道并渗入地下水，长期累积可能造成动植物氟中毒，表现为牙齿斑驳、骨骼畸形。工业排放需严格控制在ppm级，并通过中和沉淀法（如添加石灰生成氟化钙）处理废水。历史上多起氢氟酸事故（如1987年美国德克萨斯州泄漏事件）警示我们需加强储存运输监管，避免大规模生态灾难。

　　目前，在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业，其他方面用量较少。中文名:氟硅酸；硅氟酸 英文名:fluosilicic acid；silicofluoric acid 化学式:H2SiF6 相对分子质量:144.11

　　CAS号:16961-83-4

　　产品描述:氟硅酸又称硅氟氢酸，以水溶液形式存在，不稳定，易分解为四氟化硅和氟化氢。分解的四氟化硅气体和氟化氢气体对人和环境都具有一定程度的危害，目前通常将氟硅酸制备成氟硅酸钠、氟化铝等，但其附加值不高。

　　另外，由于氢氟酸的强腐蚀性，采用蒸馏工艺温度较高时腐蚀会更严重，因此所使用的蒸馏设备一般需用铂、金、银等贵金属或聚四氟乙烯等抗腐蚀性能力较强的材料来制造。电子级氢氟酸生产装置设计与工艺流程布置密切相关，垂直流向布置，原料（无水氢氟酸和高纯水）与中间产物可以依靠重力自上而下流动，高纯氢氟酸的制备在中部，产品过滤、灌装及贮存在底层。此布置可减少泵输送，节省能耗，降低生产成本，同时可避免泵对产品的二次污染。

　　萝岗工业级50%氢氟酸用途

　　7. Peterson, I.; Craw, P. A. Tetrahedron Lett., 1989, 30, 5799.8. Clarke, P. A.; Grist, M.; Ebden, M.; Wilson, C.; Ble, A. J. Tetrahedron, 2005, 61, 353. 9. Chr. Norrild, J.; Pedersen, C.; Defaye, J. Carbohydr. Res., 1996, 291, 85.

　　8、去除氮化硅将晶圆表面的氮化硅，利用热磷酸湿式蚀刻的方法将其去除掉。9、N阱离子注入利用离子注入技术，将磷打入晶圆中，形成n 型阱。而在P 型阱的表面上由于有一层二氧化硅膜保护，所以磷元素不会植入打入P 型阱之中。

　　10、N阱退火离子注入之后会严重地破坏硅晶圆晶格的完整性。所以掺杂离子注入之后的晶圆经过适当的处理以回复原始的晶格排列。退火就是利用热能来消除晶圆中晶格缺陷和内应力，以恢复晶格的完整性。同时使注入的掺杂原子扩散到硅原子的替代位置，使掺杂元素产生电特性。