详细说明
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产品参数
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品牌:希芮
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公司行业:化工
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服务项目:过氧化物
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公司区域:广州
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用途:污水处理
- 产品优势
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产品特点:
安徽 中成 洗染专用保险粉、中成雕白块(粉),双氧水、氢氟酸、(进口/国产)珠碱、纯碱、聚丙烯酰铵离子,焦亚硫酸钠,亚硫酸钠、聚合氯化铝 磷酸,片碱、磷酸三钠,五水偏硅酸钠各种电镀原料,洗染原料,污水处理原料。
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服务特点:
广东省内可送货上门:省外支持物流发货。
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氢氟酸的历史与发现
氢氟酸的发现可追溯至17世纪,当时瑞典化学家舍勒首次从萤石(CaF₂)中制得氟化氢。19世纪初,法国科学家盖·吕萨克和泰纳尔提纯了无水氢氟酸,并发现其腐蚀玻璃的特性。工业规模化生产始于20世纪,随着制冷剂和原子能需求增长。历史上,氢氟酸曾用于铀浓缩(曼哈顿计划),也因战争用途蒙上阴影。如今,其应用更偏向民用高科技领域,但安全争议始终存在。
可经皮肤吸收,氢氟酸酸雾经呼吸道吸入。对皮肤有强烈刺激性和腐蚀性。 氢氟酸中的氢离子对人体组织有脱水和腐蚀作用,而氟是活泼的非金属元素之一,与氢离子结合较牢(电离常数K=3.5×10^-4)。皮肤与氢氟酸接触后,非离子状态的HF不断解离而渗透到深层组织,溶解细胞膜,造成表皮、真皮、皮下组织乃至肌层液化坏死。氟离子与组织中的钙和镁离子结合形成难溶性盐。钙离子的减少使细胞膜对钾离子的通透性增加,钾离子从细胞内到细胞外导致神经细胞的去化而引起剧痛。
氢氟酸是氟化氢气体的水溶液,为无透明至淡黄冒烟液体。有刺激性气味。分子式 HF-H2O。相对密度 1.15~1.18。沸点 112.2℃(按重量百分比计为38.2%)。市售通常浓度:约47% 。是弱酸。氟化氢的水溶液,其溶质的质量分数可达35.35%。无溶液。浓时密度1.14g/cm3,沸点393.15K(120℃)。发烟雾。具弱酸性,但浓时的电离度比稀时大而与一般弱电解质有别。腐蚀性强,对牙、骨损害较严重。对硅的化合物有强腐蚀性。应在密闭的塑料瓶内保存。用HF溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片(与HNO3的混酸)。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强,使得氢氟酸在水中不能解离。
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新思界新加坡市场分析师表示,新加坡中国氢氟酸是因为其产能丰厚,且产品性价比对比市场具有显著优势。据中国海关总署发布数据显示,2024年8月-10月期间,新加坡中国氢氟酸1080吨,额近1200万元。中国与新加坡之间地理位置临近,海上运输便利,为中国氢氟酸生产企业进入新加披市场提供良好的贸易条件。春节将至,家家户户开始了为节日到来而进行的大扫除。然而,在清理工作的过程中,常识的缺乏可能会给家庭带来意想不到的麻烦。近日,来自福建泉州的钟先生在使用氢氟酸清洁陶瓷时,由于未采用的防护措施,导致手指严重灼伤,展示了家居清洁中潜藏的风险。这一事件引发了我们对清洁剂使用的重新思考,也警示着每位消费者,尤其在春节这个的时节,千万不要忽视防范。
EL级:金属杂质含量低于100mg/kg,控制1.00um粒径粒子,达到SEMI C1,C2标准,适合中小规模集成电路及电子元件加工工艺。电子级氢氟酸的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及性都有着十分重要的影响。因此使用电子级氢氟酸的下游企业通常不会轻易更换供应商,生产企业一般需要花较长时间来获得用户。 电子级氢氟酸是微电子行业的关键性基础化工材料之一,主要用于集成电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)制造中,用于晶圆表面清洗、芯片加工过程中的清洗和蚀刻等工序。在太阳能光伏行业中,用于硅片表面清洗、蚀剂等领域。硅锭到硅片,再到电池片的道工艺程序:清洗制绒环节会用到产品。在液晶显示器行业,用于玻璃基板清洗、氮化硅、二氧化硅蚀剂等。在TFT—LCD、半导体产业中也被广泛使用。还可用作分析试剂、原子能工业化学试剂和制备高纯度的含氟化学品。