民众化工55%氢氟酸销售批发

　　氢氟酸的历史与发现

　　氢氟酸的发现可追溯至17世纪，当时瑞典化学家舍勒首次从萤石（CaF₂）中制得氟化氢。19世纪初，法国科学家盖·吕萨克和泰纳尔提纯了无水氢氟酸，并发现其腐蚀玻璃的特性。工业规模化生产始于20世纪，随着制冷剂和原子能需求增长。历史上，氢氟酸曾用于铀浓缩（曼哈顿计划），也因战争用途蒙上阴影。如今，其应用更偏向民用高科技领域，但安全争议始终存在。

　　不同浓度的氢氟酸都具有较强的腐蚀性。低浓度的氢氟酸微离解成离子，腐蚀机理同于氯离子，造成点腐蚀，性强于氯离子，离子半径更小，腐蚀危害明显强于氯离子。较浓的溶液中，聚合作用而生成分子，离解为腐蚀性强，造成均匀腐蚀，能破坏不锈钢表面的钝化膜（性强于氧）又能钝化膜的形成（反应形成可溶性产物），对于接触不同浓度氢氟酸的设备容器防腐要求较高。志盛威华进过多年研发和现场经验的总结，多年对不同酸的研究，开发的耐氢氟酸防腐涂料，采用氟改性酚醛树脂，加入石墨烯、纳米石墨鳞片、重晶石、纳米铬粉等功能性填料而成，固化涂层致密性高，防离子渗透性能好。嫁接氟离子改性的酚醛树脂具有较高的饱和度，对氟离子的侵蚀具有一定的排斥性，维持了涂层的稳定性，抵抗住氢氟酸的腐蚀。

　　参考:Razavi-7章 CMOS工艺技术-519暴力讲解半导体中的“氮化硅”

　　制造从约1mm厚的p型硅晶片开始。在清洁和抛光工序后,在晶片表面生长一层作为保护层的二氧化硅薄层,见图17.8(a)。接着,制作n阱,光刻工序包括光刻胶涂敷、用n阱掩模版进行紫外线曝光和选择性刻蚀,然后进行n卧离子注入,见网17.8(b),之后,去除无用的光刻校和氧化层.见图17.8（C）。

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　　氢氟酸由无水氟化氢生成，在常温下为无的气体或液体。氢氟酸可以由含氟化合物水解产生，含氟化合物包括羰基氟、三氟化硼、五氟化磷、四氟化硅、四氟化硫和火山排放物中含的三氟化磷。海洋喷雾和含氟岩石和土壤的风化产生的灰尘以及人类活动污染物是大气氟化合物的其他来源。当无水氟化氢被排放到空气中，与水蒸汽接触立即变成烟和白雾。通常生成的无水氟化氢纯度为99～99.9％，然而市场上氢氟酸主要是浓度为70％的溶液。工业上生产的电子和试剂级的氢氟酸浓度是5～52％。世界各地制造无水氟化氢基本上都通过氟化钙与硫酸进行反应，该反应式由Gay Lussac和Thernard发现，在1809年他们作为批化学家获得纯的氟化氢。当加热到538 K时，氟化钙和硫酸反应生成无水氟化氢气体和固体硫酸钙，反应式如下所示:

　　腐蚀性:氟硅酸能腐蚀锑以及有相当活性的其它金属‚但它与铜及铁作用分别在铜、铁表面形成保护性不溶膜。氟硅酸水溶液能腐蚀大多数金属尤其是铝故盛放氟硅酸溶液的容器宜用聚乙烯或硬质橡胶制品。主要用途:氟硅酸是制取氟硅酸盐及四氟化硅的原料，也应用于金属电镀、木材防腐、啤酒等。 氟硅酸有剧毒能侵蚀粘膜、眼睛和皮肤。同时能释放出有毒气体 HF 和 SiF4。溶液和气相的毒性与氢氟酸相等。生产磷酸的工人患有的肺尘（埃沉着）病和肺支气管病等慢性病与接触 HF、H2SiF6和 SiF4 有关。有职业与健康国家机构组织建议氟的暴露水平应在2.5mg F／m 3 以下。氟的雾化致死量为140mg F／kg。市场上的氟硅酸是浓度为20％～35％的水溶液。由于它具有腐蚀性能腐蚀多种金属和合金一般用橡胶或塑料容器运输和保存。