佛山化工氢氟酸厂家
氢氟酸中毒的急救方法
氢氟酸暴露后,急救的黄金时间是前几分钟。皮肤接触需立即用大量清水冲洗15分钟以上,随后涂抹葡萄糖酸钙凝胶以结合游离氟离子;若无凝胶,可用镁盐或钙盐溶液湿敷。眼睛接触时需持续冲洗至少30分钟并尽快就医。吸入蒸气者应转移至空气新鲜处,给予吸氧或支气管扩张剂。无论症状轻重,均需送医监测血钙水平和心电图,静脉注射钙剂可能是必要的。延误处理会导致不可逆损伤,因此现场急救与专业医疗同样重要。
氢氟酸具有强烈的腐蚀性,可导致皮肤细胞坏死和组织损伤,从而引发疼痛。疼痛通常发生在直接接触氢氟酸的皮肤区域,可能伴有刺痛感或烧灼感。由于氢氟酸刺激皮肤黏膜,会引起炎症反应,产生组胺等致敏物质,这些物质会刺激神经末梢并发瘙痒感。瘙痒多出现在受损皮肤周围,且可能伴随有脱屑或结痂现象。 当氢氟酸接触到皮肤时,会导致扩张和血流量增加,进而形成红斑。红斑一般位于受损皮肤表面,颜可能是红、粉或紫。
泄漏:迅速撤离泄漏污染区人员至区,并进行隔离,严格限制出入。建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器,穿防酸碱工作服。不要直接接触泄漏物。尽可能切断泄漏源,进入下水道、排洪沟等限制性空间。小量泄露:用砂土、干燥石灰或苏打灰混合。也可用大量水冲洗,洗水稀释后放入废水系统。
大量泄露:构筑围堤或挖坑收容;用泵转移至槽车或收集器内,回收或运至废物处理场所处置。
若患者即将丧失意识、已经失去意识或痉挛,勿经口喂食东西。2.用冷水彻底漱口。
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Veleiro, A. S.; Taich, P. J.; Alvarez, L. D.; Di C.; Pablo H.; Burton, G. Tetrahedron Lett., 2005, 46, 4235.5. Strand, D.; Rein, T. Org. Lett., 2005, 7, 199. 6. Greene, A. E.; Coelho, F.; Depres, J. P.; Brocksom, T. J. J. Org. Chem., 1985, 50, 1973.
参考:Razavi-7章 CMOS工艺技术-519暴力讲解半导体中的“氮化硅”
制造从约1mm厚的p型硅晶片开始。在清洁和抛光工序后,在晶片表面生长一层作为保护层的二氧化硅薄层,见图17.8(a)。接着,制作n阱,光刻工序包括光刻胶涂敷、用n阱掩模版进行紫外线曝光和选择性刻蚀,然后进行n卧离子注入,见网17.8(b),之后,去除无用的光刻校和氧化层.见图17.8(C)。