阳江石英砂酸洗55%氢氟酸价格优惠

　　氢氟酸的工业应用

　　氢氟酸在工业中用途广泛，尤其在半导体制造、石油炼化和金属加工领域。在电子行业，它用于蚀刻硅晶圆，清除表面氧化物层；在石化工业中，它作为催化剂参与烷基化反应，生产高辛烷值汽油。此外，氢氟酸还用于不锈钢酸洗、稀土提取和制冷剂合成。尽管其危险性高，但因无可替代的化学性质，工业上仍大量使用，并采取严格的防护措施，如密闭操作、防腐蚀设备及应急冲洗装置。

　　由于氢氟酸具有强腐蚀性，其在工业和家庭领域的应用越来越多。例如，氢氟酸广泛应用于清洁不锈钢，蚀刻玻璃，除去金属氧化物，提取金属，纯化石英。制造商出售桶装或包装的氢氟酸。下图介绍了氢氟酸化合物的主要用途:生产制冷剂的无水氟化氢占总量的60％，制冷剂包括氢氟碳化合物、氢氟氯碳化合物和含氟聚合物。其他用途所占比例如下:化学衍生物，18％（有机和无机氟化合物，具有高度的属性，例如，织物或纤维处理剂，三氟化硼，六氟化硫和氟盐）；铝制造6％；不锈钢酸洗5％；石油烷基化催化剂4％；生产铀化学试剂3％；其他用途4％。

　　第二是作用范围大。氢氟酸进入人体之后，会进入血液循环，影响全身的组织，尤其是骨骼。氢氟酸的毒理主要是攻击钙离子，形成不溶性的氟化钙:急性反应包括迅速降低血钙，引起心律不齐甚至心脏骤停。但这样其实引起的痛苦是少的，如果是一天之后发现手变成这个样子这种情况请尽快截肢:首先有大量氟离子存在于组织之中（并未与钙等金属离子结合），细胞死亡后会进一步释放氟离子毒杀其他组织。如果剂量再低一些，可能连水泡都没有，但是在几天之后会感到手骨头痒，进而转变为剧痛。

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　　参考:Razavi-7章 CMOS工艺技术-519暴力讲解半导体中的“氮化硅”

　　制造从约1mm厚的p型硅晶片开始。在清洁和抛光工序后,在晶片表面生长一层作为保护层的二氧化硅薄层,见图17.8(a)。接着,制作n阱,光刻工序包括光刻胶涂敷、用n阱掩模版进行紫外线曝光和选择性刻蚀,然后进行n卧离子注入,见网17.8(b),之后,去除无用的光刻校和氧化层.见图17.8（C）。

　　由于氢氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用来蚀刻玻璃，半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。氢氟酸也用于多种含氟有机物的合成，比如Teflon(聚四氟乙烯）还有氟利昂一类的致冷剂操作注意事项: 密闭操作，注意通风。操作尽可能机械化、自动化。操作人员经过专门培训，严格遵守操作规程。建议操作人员佩戴自吸过滤式防毒面具，穿橡胶耐酸碱服，戴橡胶耐酸碱手套。蒸气泄漏到工作场所空气中。避免与碱类、活性金属粉末、玻璃制品接触。搬运时要轻装轻卸，包装及容器损坏。配备泄漏应急处理设备。倒空的容器可能残留有害物。