详细说明
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产品参数
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品牌:希芮
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公司行业:化工
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服务项目:过氧化物
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公司区域:广州
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用途:污水处理
- 产品优势
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产品特点:
安徽 中成 洗染专用保险粉、中成雕白块(粉),双氧水、氢氟酸、(进口/国产)珠碱、纯碱、聚丙烯酰铵离子,焦亚硫酸钠,亚硫酸钠、聚合氯化铝 磷酸,片碱、磷酸三钠,五水偏硅酸钠各种电镀原料,洗染原料,污水处理原料。
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服务特点:
广东省内可送货上门:省外支持物流发货。
黄江工业级55%氢氟酸用途
氢氟酸的储存与运输规范
氢氟酸储存需避光、低温,置于通风良好的防泄漏托盘内,远离活泼金属(如钠)和碱性物质。运输时须符合危险化学品法规,使用耐压聚乙烯桶并标注“腐蚀性”和“有毒”标志。车辆应配备防漏应急包,驾驶员需持有危险品运输资质。国际运输还需遵守《联合国关于危险货物运输建议书》,确保包装通过密封性和抗冲击测试。任何运输途中泄漏都需立即隔离现场,由专业人员处理。
氢氟酸是氟化氢气体的水溶液,有刺鼻气味,易挥发,露置空气中即冒白烟。氢氟酸是一种弱酸,其浓度越高酸性也越强。氢氟酸的腐蚀性强,能腐蚀大多数金属、玻璃和含硅的物体。所以氢氟酸溶液需放入塑料瓶中保存,并将其置于阴凉干燥处。实验室中常用硫酸分解萤石(CaF2)得到氟化氢气体,然后用水吸收制得氢氟酸。需要注意的是,氢氟酸有剧毒,能腐蚀人的器官组织,对人体危害大,日常生活中需远离。氢氟酸的应用主要集中在化工、金属制造、半导体等领域。氢氟酸可用于化工领域中制造无机氟化合物,如氟化铝、冰晶石、氟化钠、氟化氢钠等,其中氟化铝和冰晶石用量大。氢氟酸还能用于生产甲烷和乙烷的卤代物,产品主要用于空调制冷剂、气雾剂上。半导体制造过程中,氢氟酸可用于蚀刻硅晶片,以制造集成电路。氢氟酸还能用作不锈钢的清洗剂,除去金属表面的氧化物。
19、 电氧化层的形成此步骤为制做CMOS的关键工艺,利用热氧化法在晶圆上形成高品质的二氧化硅,做为电氧化层。20、 电多晶硅的淀积利用低压化学气相沉积(LPCVD)技术在晶圆表面沉积多晶硅,以做为连接导线的电。
21、 电掩膜的形成涂布光刻胶在晶圆上,再利用光刻技术将电的区域定义出来。
22、 活性离子刻蚀利用活性离子刻蚀技术刻蚀出多晶硅电结构,再将表面的光刻胶去除。
黄江工业级55%氢氟酸用途
剧毒。具有强腐蚀性,能烧伤皮肤并有渗透至骨骼的危险。对玻璃等硅酸盐有腐蚀作用,铂、橡胶、聚乙烯、聚四氟乙烯等不受腐蚀。4.对空气和湿气比较敏感。该试剂具有大的毒性和腐蚀性,带上防护面罩和手套后在通风效果好的通风橱中小心操作和使用。 5.稳定性[26] 稳定 6.禁配物[27] 易燃或可燃物 7.避免接触的条件[28] 潮湿空气
8.聚合危害[29] 不聚合1.储存注意事项[30] 储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不超过30℃,相对湿度不超过80%。应与易(可)燃物、食用化学品分开存放,切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备。 2.属一级无机酸性腐蚀性物品,遇金属能放出氢气,遇火星易引起燃烧或爆炸,因而不可与金属粉末、氧化剂、碱、有机物等共贮混运。 1.硫酸法:将干燥后的萤石粉和硫酸按配比1:(1.2~1.3)混合,送入回转式反应炉内进行反应,炉内气相温度控制在280℃±10℃。反应后的气体进入粗馏塔,除去大部分硫酸、水分和萤石粉,塔釜温度控制在100~110℃,塔顶温度为35~40℃。粗氟化氢气体再经脱气塔冷凝为液态,塔釜温度控制在20~23℃,塔顶温度为-8℃±1℃,然后进入精馏塔精馏,塔釜温度控制在30~40℃,塔顶温度为19.6℃±0.5℃。精制后的氟化氢用水吸收,即得氢氟酸产品。其
伴随着中国半导体产业迅速发展,广东氢氟酸厂家,对电子级氢氟酸的要求提升,推动电子级氢氟酸产业链迅速发展趋势,17年和2019年氢氟酸生产量再回暖到60%。电子级氢氟酸关键应用在IC、太阳能发电和液晶显示屏等行业,在其中较大应用商店是IC产业链,约占电子级氢氟酸总使用量47.3%;次之是太阳能发电生产能力,比例22.1%;液晶显示屏产业链则占18.3%。氢氟酸厂家出口市场也不尽人意。國家海关统计数据信息显示信息,2020年前2个月,在我国共出口氢氟酸2.96万吨级,同比减少31.2%;均值出口价格为1373.2美元,同比减少25.4%,展现价跌量减趋势。