神湾化工50%氢氟酸厂家价格

　　氢氟酸在实验室中的使用

　　实验室中，氢氟酸常用于消解硅酸盐样品或清洗石英器皿，但操作需极度谨慎。建议使用低浓度（如5%以下）溶液以降低风险，并在通风橱中佩戴双重防护手套。盛放容器必须标有醒目警示标签，与其他酸类分开放置。实验后废液需单独收集，用氢氧化钙中和至pH>7后再处置。因危险性高，许多实验室已逐步改用替代试剂（如氟化铵缓冲液），但某些特殊反应仍需氢氟酸参与。

　　白或无透明的正方晶系结晶，商品呈片状，在-14.8℃-126.1℃下NH4HF2--H20体系中没有水合物,略带酸味,在空气中易潮解,微溶于乙醇,易溶于冷水,在热水中分解,水溶液呈强酸性,在较高温度下能升华,能腐蚀玻璃,氟化氢铵有度,对皮肤有腐蚀性,宜密闭于塑料容器中.主要用于磨砂玻璃生产中玻璃刻蚀剂(与氢氟酸并用)，可用作化学试剂、发酵工业和防腐剂、由氧化铍制金属铍的溶剂及硅钢板的表面处理剂。还用于制造陶瓷、镁合金、锅炉给水系统和蒸汽发生系统的清洗脱垢，以及油田砂石的酸化处理。也用作烷基化异构化催化剂组分。

　　前置氧化利用热氧化法生长一层二氧化硅薄膜，目的是为了降低后续生长氮化硅薄膜工艺中的应力(stress)，氮化硅具有很强的应力，会影响晶圆表面的结构，因此在这一层氮化硅及硅晶圆之间，生长一层二氧化硅薄膜来减缓氮化硅与硅晶圆间的应力。3、淀积氮化硅利用低压化学气相沉积（LPCVD）的技术，沉积一层氮化硅，用来做为离子注入的mask及后续工艺中，定义P 型井区域。

　　4、P阱的形成将光刻胶涂在晶圆上之后，利用光刻技术，将所要形成的P型阱区的图形定义出来，即将所要定义的P型阱区的光刻胶去除掉。

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　　氢氟酸是氟化氢气体的水溶液,为无透明至淡颜冒烟液体。有发生反应性气味。分子式 HF-H2O。相对密度 1.15～1.18。沸点 112.2℃(按重量百分比计为38.2%)。市售通常浓度:约47% 。是弱酸氢氟酸腐蚀氢氟酸是一种剧毒和强腐蚀性的物质。其本身易挥发并且能与水互溶而引起强烈腐蚀。 一、氢氟酸腐蚀 (一)均匀腐蚀 氢氟酸对金属材料的腐蚀是电化学腐蚀。其腐蚀是按电化学过程进行，即阳产生金属溶解(均匀腐蚀)，阴析出氢(导致氢鼓泡和氢脆)

　　周忠志主任得知张先生的右手为氢氟酸烧伤后，立刻引起高度警惕并建议其住院治疗。此时距离张先生受伤仅仅过去几小时，但其右手四指皮肤肿胀明显，指甲也变软发黑，剧痛无比！氢氟酸（Hydrofluoric Acid）是氟化氢气体的水溶液，清澈、无、发烟的腐蚀性液体，有剧烈刺激性气味。氢氟酸是一种弱酸，具有强的腐蚀性，能迅速腐蚀金属、玻璃和含硅的物体，甚至坚硬的骨骼。 周主任介绍，氢氟酸被广泛运用于工业领域，虽被定义为弱酸，但其腐蚀性与危害性却一点都不逊于硫酸、氢氧化钠等强酸强碱物质，可以说是现实中的“化骨水”！