详细说明
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产品参数
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品牌:希芮
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公司行业:化工
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服务项目:过氧化物
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公司区域:广州
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用途:污水处理
- 产品优势
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产品特点:
安徽 中成 洗染专用保险粉、中成雕白块(粉),双氧水、氢氟酸、(进口/国产)珠碱、纯碱、聚丙烯酰铵离子,焦亚硫酸钠,亚硫酸钠、聚合氯化铝 磷酸,片碱、磷酸三钠,五水偏硅酸钠各种电镀原料,洗染原料,污水处理原料。
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服务特点:
广东省内可送货上门:省外支持物流发货。
黑龙江工业55%氢氟酸厂家价格
氢氟酸在实验室中的使用
实验室中,氢氟酸常用于消解硅酸盐样品或清洗石英器皿,但操作需极度谨慎。建议使用低浓度(如5%以下)溶液以降低风险,并在通风橱中佩戴双重防护手套。盛放容器必须标有醒目警示标签,与其他酸类分开放置。实验后废液需单独收集,用氢氧化钙中和至pH>7后再处置。因危险性高,许多实验室已逐步改用替代试剂(如氟化铵缓冲液),但某些特殊反应仍需氢氟酸参与。
摩尔体积(cm3/mol):无可用的 3、等张比容(90.2K):无可用的 4、表面张力(dyne/cm):无可用的 5、介电常数:无可用的
6、化率:无可用的
7、单一同位素质量:20.006228 Da
8、标称质量:20 Da
9、平均质量:20.0063 Da1.疏水参数计算参考值(XlogP):0.6
11、去除二氧化硅利用湿法刻蚀方法去除晶圆表面的二氧化硅。12、前置氧化利用热氧化法在晶圆上形成一层薄的氧化层,以减轻后续氮化硅沉积工艺所产生的应力。
13、 氮化硅的淀积利用低压化学气相沉积方法(LPCVD)淀积氮化硅薄膜,用来定义出器件隔离区域,使不被氮化硅遮盖的区域,可被氧化而形成组件隔离区。
14、元件隔离区的掩膜形成利用光刻技术,在晶圆上涂布光刻胶,进行光刻胶曝光与显影,接着将氧化缘区域的光刻胶去除,以定义出器件隔离区。
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氟化氢气体的水溶液。无发烟易流动的液体。有刺激性气味。剧毒,有强烈腐蚀性。市售的氢氟酸含HF约40%,其中氟化氢常以两分子缔合状态(H2F2)存在。为一弱酸,酸离解常数K=3.53×10-4。38.2% (W/WHF)水溶液为二元共沸物,沸点 112.2℃。能腐蚀玻璃和硅酸盐,生成气态四氟化硅。可溶解除金、铂以外的大部分金属,能侵蚀银、铜。与金属盐类、氧化物、氢氧化物作用生成氟化物。用水吸收氟化氢气体而得,应贮于蜡制或塑料制的容器中。
应急处理:小量泄漏:用砂土、干燥石灰或苏打灰混合。也可以用大量水冲洗,洗水稀释后放入废水系统。
大量泄漏:构筑围堤或挖坑收容。用泵转移至槽车或收集器内,回收或运至废物处理场所处置。
操作注意事项: 密闭操作,注意通风。操作尽可能机械化、自动化。操作人员经过专门培训,严格遵守操作规程。建议操作人员佩戴自吸过滤式防毒面具(全面罩),穿橡胶耐酸碱服,戴橡胶耐酸碱手套。蒸气泄漏到工作场所空气中。避免与碱类、活性金属粉末、玻璃制品接触。搬运时要轻装轻卸,包装及容器损坏。配备泄漏应急处理设备。倒空的容器可能残留有害物。