沙田化工氢氟酸生产厂家

氢氟酸在实验室中的使用
实验室中，氢氟酸常用于消解硅酸盐样品或清洗石英器皿，但操作需极度谨慎。建议使用低浓度（如5%以下）溶液以降低风险，并在通风橱中佩戴双重防护手套。盛放容器必须标有醒目警示标签，与其他酸类分开放置。实验后废液需单独收集，用氢氧化钙中和至pH>7后再处置。因危险性高，许多实验室已逐步改用替代试剂（如氟化铵缓冲液），但某些特殊反应仍需氢氟酸参与。

氢氟酸的介绍　　氢氟酸（Hydrofluoric Acid），作为氟化氢气体的水溶液，是一种清澈、无、发烟的腐蚀性液体，具有剧烈的刺激性气味。其熔点为-83.3℃，沸点19.54℃，密度约为1.15g/cm³。由于氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，氢氟酸在水中不能电离，因此低浓度时表现为一种弱酸。然而，氢氟酸具有强的腐蚀性，能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。 　　氢氟酸在工业上有着广泛的应用，如用于金属表面的清洗和腐蚀、玻璃蚀刻、以及半导体工业中硅表面的处理等。然而，由于其高度的腐蚀性和毒性，氢氟酸在处理和输送过程中需要的防护措施。

前置氧化利用热氧化法生长一层二氧化硅薄膜，目的是为了降低后续生长氮化硅薄膜工艺中的应力(stress)，氮化硅具有很强的应力，会影响晶圆表面的结构，因此在这一层氮化硅及硅晶圆之间，生长一层二氧化硅薄膜来减缓氮化硅与硅晶圆间的应力。　　3、淀积氮化硅利用低压化学气相沉积（LPCVD）的技术，沉积一层氮化硅，用来做为离子注入的mask及后续工艺中，定义P 型井区域。 　　4、P阱的形成将光刻胶涂在晶圆上之后，利用光刻技术，将所要形成的P型阱区的图形定义出来，即将所要定义的P型阱区的光刻胶去除掉。

［用途］用于制造氟化钠、氟化铝、六氟化铀、氟碳化合物、冰晶石等无机及有机氟化物。有机合成工业中用作聚合、缩合及烷基化的促进剂。石油化工中用作催化剂。也用于玻璃仪表、器皿及镜子的刻花、刻字，非铁金属及不锈钢酸洗，金属铸件除砂，磨砂灯泡处理。还用来制造杀虫剂、杀菌剂、阻燃剂，以及电镀、陶瓷处理等。　　［简要制法］生产氢氟酸有采用萤石及磷矿石两种原料路线。而以萤石为原料的硫酸法是工业上普遍采用的方法。将干燥后的萤石粉和硫酸按配比1：(1.2-1.3)混合，经高温分解、粗馏、精馏及水吸收而制得氢氟酸。

CAS号：7664-39-3　　MDL号：MFCD00011346 　　EINECS号：231-634-8 　　RTECS号：MW7875000 　　BRN号：暂无 　　PubChem号：24854662
　　1.性状：无气体，有刺激性气味。[11]
　　2.熔点（℃）：-83.3[12]
　　3.沸点（℃）：19.4[13]