南海工业氢氟酸用途

氢氟酸的历史与发现
氢氟酸的发现可追溯至17世纪，当时瑞典化学家舍勒首次从萤石（CaF₂）中制得氟化氢。19世纪初，法国科学家盖·吕萨克和泰纳尔提纯了无水氢氟酸，并发现其腐蚀玻璃的特性。工业规模化生产始于20世纪，随着制冷剂和原子能需求增长。历史上，氢氟酸曾用于铀浓缩（曼哈顿计划），也因战争用途蒙上阴影。如今，其应用更偏向民用高科技领域，但安全争议始终存在。

用作分析试剂，也用于高纯氣化物的制备。是氟盐、氣致冷剂、氟塑料、氣橡胶、氟医及农等所的氣来源 　　4、是生产冷冻剂“氟里昂”、含氣树脂、有机氣化物和氣的原料。在化工生产中可用作烷基化、聚合、缩合、异构化等有机合成的催化剂。还用于开采某些矿床时腐蚀地层，以及稀土元素、放射性元素的提取。在原子能工业生产中是制造六氟化铀的原料，也是生产火箭燃料和添加剂的原料，还可用于腐蚀玻璃和浸渍木材等。

内衬聚乙烯薄膜袋的编织袋包装，净重25kg、　　本固体氢氟酸为粉末制剂的固体酸类，可以替代氢氟酸的常规酸洗工艺，主要用于清除各种钢铁、不锈钢、铜、铝等金属零件及其设备表面的锈、氧化皮、水垢、灰垢等污物，是钢铁热扎、冷扎过程中生成的高温难清除氧化皮，清洗效果可以跟添加氢氟酸的酸洗工艺相媲美，使产品表面清洁干净；本固体氢氟酸清洗过程中没有烟雾产生，大大改善生产环境；对金属的几乎没有腐蚀，对操作人员、设备、环境。

23、 热氧化利用氧化技术，在晶圆表面形成一层氧化层。　　24、 NMOS 源和漏形成涂布光刻胶后，利用光刻技术形成NMOS源与漏区域的屏蔽，再利用离子注入技术将砷元素注入源与漏区域，而后将晶圆表面的光刻胶去除。 　　25、 PMOS 源和漏形成利用光刻技术形成PMOS源及漏区域的屏蔽之后，再利用离子注入技术将硼元素注入源及漏区域，而后将晶圆表面之光刻胶去除。
26、 未掺杂的氧化层化学气相淀积利用等离子体增强化学气相沉积( PECVD )技术沉积一层无掺杂的氧化层，保护器件表面，免于受后续工艺。　　27、 CMOS 源和漏的活化与扩散利用退火技术，将经离子注入过的漏及源进行电性活化及扩散处理。

(四)缝隙腐蚀 　　在设备焊接处存在有间隙；焊缝裂纹；垫片与密封面之间的间隙；螺母接触面间隙。在这些间隙和缝隙之间聚存着一部分静止的酸液，而且这里的酸液不断积聚浓缩使已形成的保护膜被高浓度的氢阳离子破坏，从而使腐蚀加剧。 常用材料的耐氢氟酸腐蚀特性　　1）碳钢在一定范围内能耐氢氟酸腐蚀。在无水氢氟酸中(酸浓度85～高标准，酸中含水≯3%)碳钢使用温度不高于71℃。（P76）但也有资料报道“在60℃以下，浓度大于75%以上的氢氟酸可以选用碳钢。”蒙乃尔合金是目前抗氢氟酸腐蚀较好的金属材料之一。　　　　　　　　　 Ni＋2HF→NiF2＋H2