茂名工业级55%氢氟酸现货供应

　　氢氟酸的工业应用

　　氢氟酸在工业中用途广泛，尤其在半导体制造、石油炼化和金属加工领域。在电子行业，它用于蚀刻硅晶圆，清除表面氧化物层；在石化工业中，它作为催化剂参与烷基化反应，生产高辛烷值汽油。此外，氢氟酸还用于不锈钢酸洗、稀土提取和制冷剂合成。尽管其危险性高，但因无可替代的化学性质，工业上仍大量使用，并采取严格的防护措施，如密闭操作、防腐蚀设备及应急冲洗装置。

　　第三是治疗手段少以及诸多后遗症。如果不截肢，氢氟酸暴露通常只能用葡萄糖酸钙治疗:外用软膏擦暴露处，有时甚至是全身用。也能内服以结合氟离子。但是这种治疗方式会产生大量氟化钙不溶物:剂量小时可以通过肾代谢（也带来肾毒性），剂量大的时候会发全身各处结石，不可能以手术取出。很多“治愈者”面临的不仅是截肢带来的心理创伤，还有真切的肉体上的痛楚。文献上，稀的氢氟酸会形成红斑，大面积/浓氢氟酸会形成水泡，这就是滴到人身上的早期症状。郎溪中学那事，被灼烧的学生就是手指红斑+痒。后期因为细胞缺氧，可能会逐渐变黑溃烂。

　　Veleiro, A. S.; Taich, P. J.; Alvarez, L. D.; Di C.; Pablo H.; Burton, G. Tetrahedron Lett., 2005, 46, 4235.5. Strand, D.; Rein, T. Org. Lett., 2005, 7, 199. 6. Greene, A. E.; Coelho, F.; Depres, J. P.; Brocksom, T. J. J. Org. Chem., 1985, 50, 1973.

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　　化学性质:氟化氢对热稳定，加热到1000℃仅稍有分解。还原性在卤化氢中小。其分子由于形成氢键而有缔合现象，室温下氟化氢气体是(HF)2和(HF)3的混合物。其水溶液显弱酸性。许多金属氟化物可与氟化氢形成稳定的二氟氢盐如NaHF2，KHF2等。干燥的氟化氢对多数金属或金属氧化物不起反应，可是在与金属氧化物的反应中由于产生微量的水使反应自动加速，称自催化反应。和某些非金属氧化物也有同样的反应。

　　参考:Razavi-7章 CMOS工艺技术-519暴力讲解半导体中的“氮化硅”

　　制造从约1mm厚的p型硅晶片开始。在清洁和抛光工序后,在晶片表面生长一层作为保护层的二氧化硅薄层,见图17.8(a)。接着,制作n阱,光刻工序包括光刻胶涂敷、用n阱掩模版进行紫外线曝光和选择性刻蚀,然后进行n卧离子注入,见网17.8(b),之后,去除无用的光刻校和氧化层.见图17.8（C）。