大岭山化工氢氟酸厂家

氢氟酸的历史与发现
氢氟酸的发现可追溯至17世纪，当时瑞典化学家舍勒首次从萤石（CaF₂）中制得氟化氢。19世纪初，法国科学家盖·吕萨克和泰纳尔提纯了无水氢氟酸，并发现其腐蚀玻璃的特性。工业规模化生产始于20世纪，随着制冷剂和原子能需求增长。历史上，氢氟酸曾用于铀浓缩（曼哈顿计划），也因战争用途蒙上阴影。如今，其应用更偏向民用高科技领域，但安全争议始终存在。

十年过去了，现在还时不时的指头痒痒，要挠一挠！　　氢氟酸，是一种无透明、具有强烈刺激性气味的液体，是氟化氢气体的水溶液。 　　它是一种弱酸，但在一定浓度下，其酸性表现却强烈。 　　氢氟酸为引人注目的特性还是其强的腐蚀性。它能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体，这种腐蚀能力甚至超过了许多其他强酸。氢氟酸与金属反应时，会生成氢气和相应的金属氟化物，这一特性使得它在蚀刻玻璃、电镀表面处理等工业领域有着广泛的应用。但同时，这种腐蚀性也带来了大的隐患，如吸入氢氟酸蒸气或接触其液体都可能造成严重的灼伤和腐蚀。

11、去除二氧化硅利用湿法刻蚀方法去除晶圆表面的二氧化硅。　　12、前置氧化利用热氧化法在晶圆上形成一层薄的氧化层，以减轻后续氮化硅沉积工艺所产生的应力。 　　13、 氮化硅的淀积利用低压化学气相沉积方法（LPCVD）淀积氮化硅薄膜，用来定义出器件隔离区域，使不被氮化硅遮盖的区域，可被氧化而形成组件隔离区。
　　14、元件隔离区的掩膜形成利用光刻技术，在晶圆上涂布光刻胶，进行光刻胶曝光与显影，接着将氧化缘区域的光刻胶去除，以定义出器件隔离区。

氢氟酸的危险与误区　　氢氟酸（HF）是一种其强腐蚀的化学物质，广泛应用于工业领域，尤其是在清洁陶瓷、去除水垢及刻蚀半导体材料等方面。然而，很多消费者在使用这类强腐蚀性的化学清洁剂时，并未充分认识到其危险性。钟先生的悲剧就是一个典型的例：他在使用氢氟酸时仅佩戴了普通布手套，导致化学品直接接触皮肤，造成严重的化学灼伤。专家指出，氢氟酸可通过皮肤吸收，侵蚀深层组织，后果不堪设想。清洁过程中的防护措施　　在进行家庭清洁时，切勿轻视防护，通常应该遵循以下几点建议：使用的防护手套，如橡胶手套或耐酸碱手套，确保不让化学物质直接接触皮肤；穿戴合适的保护眼镜，液体溅入眼中；在通风良好的地方进行清洁作业，以减少有害气体的吸入；如果不确定清洁剂的使用，务必根据说明书进行操作，必要时寻求帮助。

高浓度灼伤常呈进行性坏死，溃疡愈合缓慢。严重者累及骨骼，尤以指骨为多见，表现为无菌性骨髓炎的征象。　　氢氟酸酸雾可引起皮肤瘙痒及皮炎。剂量大时亦可造成皮肤、胃肠道和呼吸道粘膜的灼伤。 HF理化性质:氢氟酸是氟化氢气体的水溶液,为无透明至淡黄冒烟液体.有刺激性气味.分子式 HF-H2O.相对密度 1.15～1.18.沸点 112.2℃(按重量百分比计为38.2%).市售通常浓度:约47% .是弱酸.氟化氢的水溶液,其溶质的质量分数可达35.35%.无溶液,有毒.浓时密度1.14g/cm3,沸点393.15K（120℃）.发烟雾.具弱酸性,但浓时的电离度比稀时大而与一般弱电解质有别.腐蚀性强,对牙、骨损害较严重.对硅的化合物有强腐蚀性.应在密闭的塑料瓶内保存.用HF溶于水而得.用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片（与HNO3的混酸）.因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强,使得氢氟酸在水中不能解离.氢氟酸能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃（二氧化硅）,反应方程式如下：SiO2(s) + 6 HF(aq) → H2SiF6(aq) + 2 H2O(l)正因如此,它储存在塑料容器中（理论上讲,放在聚四氟乙烯做成的容器中会）.氢氟酸还是一种还原剂,如果要长期储存,不仅需要一个密封容器,而且容器中应尽可能将空气排尽.工业制法：工业上用萤石（氟化钙 CaF2）和浓硫酸来制造氢氟酸.加热到250摄氏度时,这两种物质便反应生成氟化氢.反应方程式为：CaF2 + H2SO4 → 2 HF + CaSO4这个反应生成的蒸气是氟化氢、硫酸和其他几种副产品的混合物.在此之后氟化氢可以通过蒸馏来提纯.