望牛墩工业50%氢氟酸厂家价格

　　氢氟酸与其他酸的对比

　　与盐酸、硫酸等强酸相比，氢氟酸的独特之处在于其分子渗透性和与硅的强反应能力。硫酸主要通过脱水性造成烧伤，而氢氟酸则通过氟离子的生化毒性引发深层损伤。硝酸的氧化性更强，但氢氟酸对玻璃的腐蚀性无可比拟。此外，氢氟酸的中和需特异性钙剂，而普通酸烧伤仅需清水冲洗。这些差异使得氢氟酸事故处理更具挑战性，常规酸防护措施可能不足以应对其风险。

　　用雾状水、泡沫灭火。灭火时戴氧气防毒面具和全身防护服。酸液溅及皮肤。 包装标志:腐蚀品和毒害品。包装方法:(I)(II)类。聚乙烯或聚四氟乙烯塑料桶。储运条件:储存于通风的不燃库房。避免阳光直射。远离火种、热源。切忌接触H发孔剂、氰化物、金属粉末、碱类等。工作人员穿戴用聚氯乙烯或氯丁橡胶制的防护用品(包括长袖工作服、防毒面具、面罩或化学防护镜、帽、手套和脚套)。并备有淋浴和洗眼睛设备供工作人员工作后清洗。

　　健康危害: 对皮肤有强烈的腐蚀作用。灼伤初期皮肤潮红、干燥。创面苍白，坏死，继而呈紫黑或灰黑。深部灼伤或处理不当时，可形成愈合的深溃疡，损及骨膜和骨质。本品灼伤疼痛剧烈。眼接触高浓度本品可引起角膜穿孔。接触其蒸气，可发生支气管炎、肺炎等。慢性影响:眼和上呼吸道刺激症状，或有鼻衄，嗅觉减退。可有牙齿酸蚀症。骨骼X线异常与工业性氟病少见。燃爆危险: 本品不燃，具强腐蚀性、强刺激性，可致人体灼伤。皮肤接触: 立即脱去污染的衣着，用大量流动清水冲洗至少15分钟并就医。

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　　23、 热氧化利用氧化技术，在晶圆表面形成一层氧化层。24、 NMOS 源和漏形成涂布光刻胶后，利用光刻技术形成NMOS源与漏区域的屏蔽，再利用离子注入技术将砷元素注入源与漏区域，而后将晶圆表面的光刻胶去除。

　　25、 PMOS 源和漏形成利用光刻技术形成PMOS源及漏区域的屏蔽之后，再利用离子注入技术将硼元素注入源及漏区域，而后将晶圆表面之光刻胶去除。

　　26、 未掺杂的氧化层化学气相淀积利用等离子体增强化学气相沉积( PECVD )技术沉积一层无掺杂的氧化层，保护器件表面，免于受后续工艺。27、 CMOS 源和漏的活化与扩散利用退火技术，将经离子注入过的漏及源进行电性活化及扩散处理。

　　储存注意事项:储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不超过30℃，相对湿度不超过85%。保持容器密封。应与碱类、活性金属粉末、玻璃制品分开存放，切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备和合适的收容材料。监测方法:离子选择性电法；氟试剂－镧盐比法 张先生是玻璃厂一名工人，在制作雕花玻璃时右手不慎直接接触到高浓度氢氟酸，当时只是微微发红，没有明显疼痛，张先生并未引起重视，简单冲洗后继续工作。临近下班时，张先生的右手越来越痛，逐渐忍受，而且肿胀明显，急忙来到湖南中医大学附属医院烧伤疮疡整形科就诊。