大朗55%氢氟酸供应

　　氢氟酸的用途:可用以浸蚀、清洗、刻划标记硅芯片，以及制作各式各样的硅芯片，广泛用于半导体工业的上、中、下游产业的多项制作过程，半导体(锗、硅)的制造。用于有机或无机氟化物的制造，如氟碳化合物、氟化钠、氟化铝、六氟化铀和冰晶石等。也用作染料合成及其他有机合成的催化剂。还用于电镀、试剂、发酵、制革、合成剂及杀菌剂、陶瓷处理以及含氟树脂和阻燃剂的制造等。还用于不锈钢、非铁金属酸洗，玻璃仪表刻度、玻璃器皿和镜子刻花、刻字，以及玻璃器皿抛光、磨砂灯泡和一般灯泡处理、金属石墨乳除硅提纯、金属铸件除砂、石墨灰分的去除。

　　氢氟酸废水的应急处理:小量泄漏:用砂土、干燥石灰或苏打灰混合。也可以用大量水冲洗，洗水稀释后放入废水系统。大量泄漏:构筑围堤或挖坑收容。用泵转移至槽车或收集器内，回收或运至废物处理场所处置。操作注意事项: 密闭操作，注意通风。操作尽可能机械化、自动化。操作人员经过专门培训，严格遵守操作规程。建议操作人员佩戴自吸过滤式防毒面具（全面罩），穿橡胶耐酸碱服，戴橡胶耐酸碱手套。蒸气泄漏到工作场所空气中。避免与碱类、活性金属粉末、玻璃制品接触。搬运时要轻装轻卸，包装及容器损坏。配备泄漏应急处理设备。倒空的容器可能残留有害物。

　　含CaF2＞97%、SiO2＜1%、CaCO3＜1%的制酸级萤石经干燥、粉碎筛分至粒度＜150μm后与98%浓硫酸按1:（1.2～1.3）的配比送入回转炉内进行反应。回转炉前段温度为160～180℃，后段为220～280℃，炉内气相温度控制在（280±10）℃。需要注意，如二氧化硅含量过高，会和HF反应生成四氟化硅而降低HF的收率，从而增加硫酸消耗。如碳酸钙含量过高也会增加硫酸消耗，并在反应器内形成二氧化碳泡沫，降低HF的浓度，去掉硝酸和发红颜。氢氟酸，分子式HF－H2O，属剧毒弱酸，可经皮肤和呼吸道被人体吸收。对皮肤有强烈刺激性和腐蚀性。吸入氢氟酸酸雾会引起支气管炎和出血性肺水肿，人体摄入1.5g可致立即死亡，经皮肤吸收可引起严重中毒。